3DMEMS扫描镜研发

扫描镜是通过精确控制镜面的偏角来控制光束的偏转方向，扫描镜可用于光束的指向控制和扫描。昊量光电可提供的光束偏转产品包括以下产品：MEMS 扫描镜：由静电驱动，可提供镜面直径从0.8-7.5mm不等产品。一个产品可在点对点、一个轴谐振另外一个点对点控制，两个轴谐振三种不同模式下工作。二维MEMS扫描镜（直径3.0mm /直径1.4mm）采用半导体硅技术制造， 低功耗静电驱动，快轴可达到几kHz共振模式，慢轴可实现稳定旋转，并可以实现 二维光束空间用户可以根据光学系统的实际应用选择合适的镜面尺寸。相较于传统的扫描镜，MEMS扫描镜的成本低。3DMEMS扫描镜研发

MEMS扫描微镜在整片的单晶硅上采用拥有技术的无万向节设计和独特的多级悬梁制造工艺制作一个完整的微镜促动器。其中采用无万向节设计可以使微镜在成像或光束偏转时可以在两个轴上达到同样的高速度。一个普通的拥有0.8mm直径的微镜，当机械偏角为-6°到+6°时，非谐振偏转速度超过1000rad/s，谐振频率更是达到3.6KHz。与常规的MEMS扫描镜不同的是，该微型振镜可以在多个模式下工作，即点对点模式（受迫振动）、混合模式和谐振模式。专业MEMS扫描微镜多少钱购买MEMS扫描微镜要注意去找正规的厂家。

MEMS扫描镜的市场前景是比较好的，从MEMS扫描镜的轴数看，双轴扫描镜是技术发展趋势，这样能大幅度降低封装成本。从MEMS扫描镜的扫描角度精度看，发展趋势是扫描镜集成制造角度传感器，采用闭环控制方法实现对扫描微镜的精确控制。从MEMS扫描镜的驱动方式看，由于压电驱动具有更高的力密度，压电驱动MEMS扫描镜将可能成为技术新方向，值得关注。一维 MEMS 扫描镜设计上采用高速共振模式，以达到大光学扫描角的性能，可实现光束，一维空间的精确扫描；用户可根据实际应用的光学系统需求，选择合适的反射镜面尺寸及性能参数；镜面表面以金或铝为标准镀膜材料，为不同工作波长光束提供高反射率。

MEMS 扫描镜的应用：传统的光学扫描镜体积大、成本高，且多为散装，限制了其应用。相较于传统的扫描镜，MEMS扫描镜具有尺寸小、成本低、扫描频率高、响应速度快和功耗低等优点，以被普遍的应用在光通信、扫描成像、激光雷达、内窥镜、3D扫描成像等领域。按照扫描维度不同，MEMS扫描镜可以分为一维扫描镜和二维扫描镜，一维扫描镜是指在镜面在一个维度内偏转，二维扫描镜是指沿着两个方向同时对光束进行调节。实现二维扫描，可以选用两个一维的扫描镜，也可以选用两个一个二维的扫描镜。相比较而言二维扫描镜功能更强大，但是结构也更复杂，控制的难度也就越大。一维MEMS扫描镜是采用半导体硅工艺制造的。

MEMS微镜扫描方法使用洛伦兹力磁体来控制1cm²微镜设备的运动，这是朝着小尺寸传感器模块迈出的一步，它无需使用电机，且限制了 会引起摩擦的机械部件。从理论上讲，降低了那些可能影响传感器模块可靠性和使用寿命的因素。分辨率的提高主要来自调整反射镜和激光发射器的尺寸。通过提高分辨率，开发者旨在提高对象检测和识别的可靠性。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造, 低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率,目前已经量产,可大批量交付客户,亦可大规模制造中采用铝为镜面材料,实现其他波段的高反射率。同时,可以根据不同需求定制其他不同大小镜面的MEMS微镜芯片。一维MEMS扫描镜目前已经量产。家用MEMS器件安装

微镜具有的优点：低的制造成本。3DMEMS扫描镜研发

扫描微镜激光系统：扫描微镜激光系统能够产生连续光束，而不会像LED前照灯那样，出现当单颗LED启动或关闭时出现的“跳跃”照明区域边界的情况。另一个非常重要的优势是这款系统能够根据需要重新调整光通量，提高光源的平均利用率，降低系统功耗。这项激光器技术或将为MEMS产品带来一块全新的市场。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造,低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率。3DMEMS扫描镜研发

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