广州微型化MEMS扫描微镜制造

MEMS扫描微镜的发展趋势：MEMS扫描镜的反射镜面直径通常为数毫米，镜面厚度、支撑悬臂梁的厚度/宽度只为数十微米至数百微米。MEMS扫描镜面采用金属反射薄膜，可以承受的激光功率可达到瓦级以上，因此可以满足信息激光应用的要求。：MEMS扫描镜技术的发展趋势是更好地满足各项应用的技术要求、更低的成本、更高的可靠性。从MEMS扫描镜的技术参数看，发展趋势是大尺寸镜面、大扫描角度，对MEMS三维激光雷达应用；MEMS扫描镜的直径数毫米，水平光学扫描角度高达110°，垂直光学扫描角度25~40°，谐振频率高达数十kHz。目前可以根据不同需求定制其他不同大小镜面的MEMS微镜芯片。广州微型化MEMS扫描微镜制造

MEMS扫描镜的市场前景：从MEMS扫描镜的轴数看，双轴扫描镜是技术发展趋势，这样能大幅度降低封装成本。从MEMS扫描镜的扫描角度精度看，发展趋势是扫描镜集成制造角度传感器，采用闭环控制方法实现对扫描微镜的精确控制。从MEMS扫描镜的驱动方式看，由于压电驱动具有更高的力密度，压电驱动MEMS扫描镜将可能成为技术新方向，值得关注。一维MEMS扫描镜设计上采用高速共振模式，以达到大光学扫描角的性能，可实现光束，一维空间的精确扫描；用户可根据实际应用的光学系统需求，选择合适的反射镜面尺寸及性能参数；镜面表面以金或铝为标准镀膜材料，为不同工作波长光束提供高反射率。MEMS器件哪里有一维MEMS扫描镜的特征：高角度分辨率。

一维MEMS扫描镜简介：一维MEMS扫描镜设计上采用高速共振模式，以达到大光学扫描角的性能，可实现光束。一维空间的精确扫描；用户可根据实际应用的光学系统需求，选择合适的反射镜面尺寸及性能参数；镜面表面以金或铝为标准镀膜材料，为不同工作波长光束提供高反射率；若采用两颗一维MEMS扫描镜组合即可实现光束在二维空间的精确扫描，可实现高性能要求应用的开发。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造,低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率,目前已经量产,可大批量交付客户,亦可大规模制造中采用铝为镜面材料,实现其他波段的高反射率

MEMS扫描微镜要注意找正规的厂家购买，芯片封装形式：MEMS芯片产品，其封装形式可以根据不同的使用需求进行定制化开发。我司可提供1种（CLCC封装,如下图所示）标准封装形式供客户使用。一维MEMS扫描镜需要特殊的驱动控制模块，我司可提供与之匹配的专业驱动控制模块，可缩短客户对其开发周期。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造,低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率,目前已经量产,可大批量交付客户,亦可大规模制造中采用铝为镜面材料,实现其他波段的高反射率。任何MEMS芯片的量产从来都不是简单的事。

MEMS扫描镜所采用的驱动技术有哪些？：MEMS扫描镜的驱动技术有四种，即静电驱动、电磁驱动、压电驱动和电热驱动，其中前两种技术比较成熟，应用也更普遍。静电驱动MEMS扫描镜（如图7）采用单晶硅制造，工艺简单、成熟，芯片尺寸小，驱动功耗极低，封装也比较简单，属电压驱动型器件。静电驱动MEMS扫描镜由于器件工作于谐振状态，可以实现大角度的扫描，但驱动电压会比较高。由于电磁驱动的力密度大，电磁驱动MEMS扫描镜也获得普遍的应用，其扫描角度大，可以实现线性扫描。电磁驱动器件工艺涉及数十微米厚度的电磁线圈的制造，封装需要配置永磁铁，器件模块尺寸稍大些。该器件属电流驱动型器件，驱动电流达数十毫安，驱动功耗较高。器件既可工作于谐振状态，也可以工作于非谐振状态，当工作与谐振状态时，驱动功耗可以大幅度降低。MEMS微镜的运动方式包括平动和扭转两种机械运动。广州智能机器人MEMS器件

MEMS扫描微镜的使用要注意什么？广州微型化MEMS扫描微镜制造

MEMS扫描微镜的所谓静电驱动技术，就是利用电荷间的库仑力作为驱动力进行驱动的技术。通过静电作用使可以活动的微镜面转动，从而改变光路。虽然驱动力较其他原理的器件相比偏小，但工艺兼容性较好，可以使用体硅和表面硅机械加工工艺制作，便于实现集成。静电驱动技术按结构分，主要有平行板电容结构、抓刮结构（scratchdriveactuator，SDA）和梳齿结构三大类。所谓的平板电容结构，就是在平板电容的两端施加电压，上级板可动，下极板固定。当外加驱动电压时，静电力使极板间距减小，造成静电力增大；静电力的增大进一步引起极板间距的减小，又使静电力进一步增大，这是一个正反馈过程。因此，通过对外加电压的控制实现镜面的扭转，但只有当驱动电压在一定范围内才是稳定的。广州微型化MEMS扫描微镜制造

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