通讯MEMS扫描镜制造

MEMS扫描镜的市场前景：从MEMS扫描镜的轴数看，双轴扫描镜是技术发展趋势，这样能大幅度降低封装成本。从MEMS扫描镜的扫描角度精度看，发展趋势是扫描镜集成制造角度传感器，采用闭环控制方法实现对扫描微镜的精确控制。从MEMS扫描镜的驱动方式看，由于压电驱动具有更高的力密度，压电驱动MEMS扫描镜将可能成为技术新方向，值得关注。一维MEMS扫描镜设计上采用高速共振模式，以达到大光学扫描角的性能，可实现光束，一维空间的精确扫描；用户可根据实际应用的光学系统需求，选择合适的反射镜面尺寸及性能参数；镜面表面以金或铝为标准镀膜材料，为不同工作波长光束提供高反射率。一维MEMS扫描镜的成本低。通讯MEMS扫描镜制造

扫描镜具有的特点是比较多的，扫描镜是通过精确控制镜面的偏角来控制光束的偏转方向，扫描镜可用于光束的指向控制和扫描。昊量光电可提供的光束偏转产品包括以下产品：MEMS扫描镜：由静电驱动，可提供镜面直径从0.8-7.5mm不等产品。一个产品可在点对点、一个轴谐振另外一个点对点控制，两个轴谐振三种不同模式下工作。二维MEMS扫描镜（直径3.0mm/直径1.4mm）采用半导体硅技术制造，低功耗静电驱动，快轴可达到几kHz共振模式，慢轴可实现稳定旋转，并可以实现二维光束空间用户可以根据光学系统的实际应用选择合适的镜面尺寸。通讯MEMS扫描镜制造MEMS微镜扫描方法使用洛伦兹力磁体来控制1cm²微镜设备的运动。

MEMS扫描镜特点：MEMS扫描镜的尺寸很小，其反射镜面直径通常为数毫米，镜面厚度、支撑悬臂梁的厚度/宽度只为数十微米至数百微米。MEMS扫描镜面采用金属反射薄膜，可以承受的激光功率可达到瓦级以上，因此可以满足信息激光应用的要求。：MEMS扫描镜技术的发展趋势是更好地满足各项应用的技术要求、更低的成本、更高的可靠性。从MEMS扫描镜的技术参数看，发展趋势是大尺寸镜面、大扫描角度，对MEMS三维激光雷达应用；MEMS扫描镜的直径数毫米，水平光学扫描角度高达110°，垂直光学扫描角度25~40°，谐振频率高达数十kHz。

微镜具有的优点：低功耗和低的制造成本。许多行业将微镜普遍用于MEMS应用。微镜具有普遍的潜在应用。比如，微镜可用于控制光学元件，由于具有这种功能，它们在显微镜和光纤领域非常有用。微镜常用于扫描仪、平视显示器和医学成像等领域。此外，MEMS系统有时还将集成扫描微镜系统用于消费者和通信应用。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造,低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率,目前已经量产,可大批量交付客户,亦可大规模制造中采用铝为镜面材料,实现其他波段的高反射率。同时,可以根据不同需求定制其他不同大小镜面的MEMS微镜芯片。利用MEMS二维扫描微镜，以及半导体激光器的光强调制技术，可以实现全高清的微型激光投影仪。

MEMS微镜也已经应用于汽车其他领域，例如DLP方案的HUD和前照灯系统，且已经通过了车规级的NVH测试。（InnovizOne在功能安全性上取得了ASIL-B传感器级别和ASIL-D系统级别的认证）。MEMS微镜的运动会产生噪声，从而限制了激光雷达的FoV和二维扫描据称，温度问题尚待解决。MEMS微镜扫描方法使用洛伦兹力磁体来控制1cm²微镜设备的运动，这是朝着小尺寸传感器模块迈出的一步，它无需使用电机，且限制了会引起摩擦的机械部件。从理论上讲，降低了那些可能影响传感器模块可靠性和使用寿命的因素。一维MEMS扫描镜的特征：采用 MEMS 静电驱动原理，体积小。通讯MEMS扫描镜制造

一维MEMS扫描镜的特征：高扫描频率。通讯MEMS扫描镜制造

MEMS扫描微镜的制造：该MEMS扫描镜采用静电驱动且选用整个单晶硅制备而成，因此使得驱动电压和偏转角度之间存在良好的一一对应的关系，并且有着可重复性，而且随着使用时间的推移依然保持着极高的性能。对于开环的微振镜，致动器在每个轴上至少有14Bits（约16384个位置），因此当机械偏转角度为-5°到+5°是，角度的分辨率可达到10微弧度。一维MEMS扫描镜(直径1.4mm)采用半导体硅工艺制造,低功耗静电驱动,以高速谱振模式,可实现大的光学扫描角度和高扫描频率,镜面表面以金为标准镀膜材料,可为红外波长光束提供高反射率。通讯MEMS扫描镜制造

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