广西全自动金相抛光机
酸雾中和处理系统一.产品介绍ATC酸雾处理系统是**于实验室,尤其是实验室进行低倍样品腐蚀时,对腐蚀产生的酸雾进行强力抽排、中和处理,产生满足空气排放标准的系统。该系统耐腐蚀,美观,可定制以便和实验室其他设备和家具摆放整齐。该系统由排风柜和酸雾中和装置两部分组成,可和低倍酸蚀装置集成为一体。二.主要参数1、排风柜1)排风采用液晶面板、微机控制;2)采用低噪音,强力防酸风机;3)各部件由耐酸材料制成,长期使用不腐蚀;4)工作台面:专业耐酸碱PP台面,常规厚度8mm,也可加厚到16mm;5)台面支撑强度为150kg(厚度为8mm时),酸蚀槽和清洗池底部有支撑;6)柜体:采用厚8mm瓷白色PP制作,耐酸碱性能优异。内支撑架由CNC精确裁切加工,同色同质焊条熔焊修饰处理,表面无锐角。7)带PP水槽:尺寸:384*285*270mm8)尺寸(毫米):1800(宽)X850(深)X2350(高),可定制;9)低倍酸蚀装置和排风系统组成一体(见右图);10)带加热水装置,以便及时利用热水冲洗样品;11)排放口直径:350-400mm;12)电压:需两种电压380V/220V;最大功率:4.0KW。2、酸雾中和装置低倍腐蚀或其他腐蚀产生的酸雾通过该装置时,酸雾由下而上,含碱性的水由上喷淋而下,自动金相镶嵌机支持定制。广西全自动金相抛光机
金相切割片一、用途金相切割片主要用于金相制样过程中样品切割,金相切割片脱胎于普通砂轮切割中的湿式砂轮切割片,在提升了切割精度和切割温度控制后形成了适合金相制样需求的金相切割片,也是以氧化铝树脂切割片,碳化硅树脂切割片和金刚石烧结切割片三个类型为主。所有切割片均采用**度树脂盒推荐磨料制作而成,切削锋利、不易破裂、切削热极小,样品热影响层浅,极大减少发热、不会对产生样品组织变化。二、参数1、LWA低软快刀:切削锋利,样品热影响层浅,和母体分割不会产生组织变化。浙江实验金相试样镶嵌金相自动磨抛机中心加压。
二氧化硅悬浮抛光液一、产品用途二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。二、产品特点:高抛光速率、高纯度,有效减小对电子类产品玷污、高平坦度三、规格::0.02um、0.05um二氧化硅悬浮抛光液一、产品用途二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。***用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。二、产品特点:高抛光速率、高纯度,有效减小对电子类产品玷污、高平坦度三、规格::0.02um、0.05um
抛光粉一、用途 抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅等组份组成。不同的材料的硬度不同,在水中的化学性质也不同,因此使用场合各不相同。通常,氧化铈抛光粉用于玻璃和含硅材料的抛光,氧化铝抛光粉用于不锈钢的抛光。 二、规格参数 1、金刚石抛光微分:粒度:0.25um, 0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 6um, 7um, 10um, 14um, 20um, 28um, 40um,供用户自己选用载体,进行研磨抛光; 2、氧化铝研磨抛光粉:粒度:0.05um,0.3um,0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 5um, 6um, 7um, 9um, 10um, 14um, 15um, 20um, 28um, 40um,用于研磨抛光; 3、碳化硅研磨抛光粉:粒度:0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3.5um, 7um, 10um, 14um, , 20um, 28um, 40um,用于研磨抛光; 4、氧化铬抛光粉:粒度:0.5um,1um,用于研磨抛光; 自动金相研磨抛光机 极化曲线。
倒置金相显微镜OC-40BDOC-40BD倒置金相显微镜采用优良的无限远光学系统与模块化的功能设计理念,可以方便升级系统,实现偏光观察、暗场观察等功能。紧凑稳定的高刚性主体,充分体现了显微镜操作的防振要求。符合人机工程学要求的理想设计,使操作更方便舒适,空间更广阔。适用于金相组织及表面形态的显微观察,是金属学、矿物学、精密工程学研究的理想仪器。倒置金相显微镜OC-40BDOC-40BD倒置金相显微镜采用优良的无限远光学系统与模块化的功能设计理念,可以方便升级系统,实现偏光观察、暗场观察等功能。紧凑稳定的高刚性主体,充分体现了显微镜操作的防振要求。符合人机工程学要求的理想设计,使操作更方便舒适,空间更广阔。适用于金相组织及表面形态的显微观察,是金属学、矿物学、精密工程学研究的理想仪器。 自动金相试样磨抛机双盘双控?贵州体视金相制样机
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氧化铝悬浮抛光液一、产品用途氧化铝悬浮研磨抛光液,磨料在分散剂中均匀、游离分布,适用于精密磨抛。不仅适用于金相和岩相的研磨、抛光,还适用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、c0.3um,0.5um,1um,1.5um,2.5um,3.5um,7um,10um,14um,20um,28um,40um氧化铝悬浮抛光液一、产品用途氧化铝悬浮研磨抛光液,磨料在分散剂中均匀、游离分布,适用于精密磨抛。不仅适用于金相和岩相的研磨、抛光,还适用于各种黑色和有色金属、陶瓷、复合材料以及宝石、仪表、光学玻璃等产品的高光洁度表面的研磨及抛光。二、产品特点高抛光速率、粒度可控、高平坦度三、规格:粒度:0.05um,0.3um,0.5um,1um,1.5um,2.5um,3.5um,7um,10um,14um,20um,28um,40um广西全自动金相抛光机
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