大型自动金相试样浸蚀

产品特点：1、7寸触摸屏操作控制。2、电压、电流范围大，可同时满足各种材料的抛光和腐蚀；3、可选择电压电流曲线实时显示；4、实现恒定电流和恒定电压工作方式；5、直流0~100V/0~6A，电流/电压值可定制；6、电压、电流有初调和微调切换功能，能准确稳定的设定电压电流值；7、电压电流调节、显示精度小数点后两位；8、电信号低纹波，稳定性高；9、电源过压、过热以及市电输入过欠压保护；10、可控制样品的抛光/腐蚀面积（样品罩开孔直径15mm，20mm，30mm）；11、控制抛光/腐蚀工作时间；12、搅拌装置保证了抛光/腐蚀介质均匀，样品表面环境一致；13、工作电压、电流可输入计算机，以便于进一步数据分析和研究(选配项：RS485连接方式任选与计算机通讯)。金相镶嵌机触摸屏操作。大型自动金相试样浸蚀

金相侵蚀剂金相侵蚀剂是酒精和硝酸的混合溶液,故是硝酸起腐蚀作用 这是一个电化学反应过程:金属与合金中的晶粒与晶粒之间、晶内与晶界以及各相之间的物理化学性质不同，且具有不同的自由能。当受到硝酸浸蚀时，会发生电化学反应，此时硝酸可称为电解质溶液。无水乙醇无色澄清液体。有灼烧味。易流动。极易从空气中吸收水分，能与水和氯仿、**等多种有机溶剂以任意比例互溶。能与水形成共沸混合物(含水4.43%)，共沸点78.15℃。相对密度(d204)0.789。熔点-114.1℃。沸点78.5℃。折光率(n**)1.361。闭杯时闪点（在规定结构的容器中加热挥发出可燃气体与液面附近的空气混合，达到一定浓度时可被火星点燃时的温度）13℃。易燃。蒸气与空气能形成性混合物，极限3.5%～18.0%（体积）山东双盘金相腐蚀一体自动金相研磨抛光机 极化曲线。

利用电化学原理进行金相样品的制备。该设备工作电压、电流范围大，功能齐全，既可用于金相试样的抛光，也可用于金相试样的腐蚀，具备制样快，重复性好等优点，是钢、铁，尤其是不锈钢及有色金属试样制备的理想设备。利用电化学原理进行金相样品的制备。该设备工作电压、电流范围大，功能齐全，既可用于金相试样的抛光，也可用于金相试样的腐蚀，具备制样快，重复性好等优点，是钢、铁，尤其是不锈钢及有色金属试样制备的理想设备。

产品特点：1、电动液压系统精细控制压力，确保脆性试样。2、预热功能可以缩短制样加热时间。3、制样单元也控制系统隔离设计，方便清理维护。4、直观触摸屏的操作，参数设置方便，一键启动，同时可以看到制样温度与压力变化。5、***总制样剩余时间与进度条过程进度显示。6、支持中英文语言切换，屏幕显示亮度设置，3种提示音选择。7、强大用户自定义方法数据库，支持中英文输入，可存储25条方法数据，特殊需求可扩展。8、三种制样方法模式，适合不同材料试样。金属金刚石切割片 大口径的排水管道，解决易堵的问题。

酸雾中和处理系统一．产品介绍ATC酸雾处理系统是**于实验室，尤其是实验室进行低倍样品腐蚀时，对腐蚀产生的酸雾进行强力抽排、中和处理，产生满足空气排放标准的系统。该系统耐腐蚀，美观，可定制以便和实验室其他设备和家具摆放整齐。该系统由排风柜和酸雾中和装置两部分组成，可和低倍酸蚀装置集成为一体。二．主要参数1、排风柜1）排风采用液晶面板、微机控制；2）采用低噪音，强力防酸风机；3）各部件由耐酸材料制成，长期使用不腐蚀；4）工作台面：专业耐酸碱PP台面，常规厚度8mm，也可加厚到16mm;5）台面支撑强度为150kg（厚度为8mm时），酸蚀槽和清洗池底部有支撑;6）柜体:采用厚8mm瓷白色PP制作，耐酸碱性能优异。内支撑架由CNC精确裁切加工，同色同质焊条熔焊修饰处理，表面无锐角。7）带PP水槽：尺寸：384*285*270mm8）尺寸(毫米)：1800（宽）X850(深)X2350(高)，可定制；9）低倍酸蚀装置和排风系统组成一体（见右图）；10）带加热水装置，以便及时利用热水冲洗样品；11）排放口直径：350-400mm；12）电压：需两种电压380V/220V;最大功率：4.0KW。2、酸雾中和装置低倍腐蚀或其他腐蚀产生的酸雾通过该装置时，酸雾由下而上，含碱性的水由上喷淋而下，金相自动研磨抛光机 电解抛光、腐蚀一体。贵州精密金相试样镶嵌

金相研磨机磨抛一体。大型自动金相试样浸蚀

抛光粉一、用途                                                                                                抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅等组份组成。不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。通常，氧化铈抛光粉用于玻璃和含硅材料的抛光，氧化铝抛光粉用于不锈钢的抛光。                                    二、规格参数                                                                                                   1、金刚石抛光微分：粒度：0.25um, 0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 6um, 7um, 10um, 14um, 20um, 28um, 40um，供用户自己选用载体，进行研磨抛光；                                                                    2、氧化铝研磨抛光粉：粒度：0.05um,0.3um,0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 5um, 6um, 7um, 9um, 10um, 14um, 15um, 20um, 28um, 40um，用于研磨抛光；                                                              3、碳化硅研磨抛光粉：粒度：0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3.5um, 7um, 10um, 14um, , 20um, 28um, 40um，用于研磨抛光；                                                                                                  4、氧化铬抛光粉：粒度：0.5um,1um，用于研磨抛光；                                                                                              大型自动金相试样浸蚀