北京低速精密金相抛光机

正置金相显微镜OC-30DOC-30D正置金相显微镜适用于对不透明物体进行显微观察。本仪器配置落射照明器、长距平场消色差物镜(无盖玻片)、大视野目镜和内置偏光观察装置，具有图像清晰、衬度好，操作方便等特点，是金属学、矿物学、精密工程学、电子学等研究的理想仪器。适用于学校、科研、工厂等部门使用。 正置金相显微镜OC-30DOC-30D正置金相显微镜适用于对不透明物体进行显微观察。本仪器配置落射照明器、长距平场消色差物镜(无盖玻片)、大视野目镜和内置偏光观察装置，具有图像清晰、衬度好，操作方便等特点，是金属学、矿物学、精密工程学、电子学等研究的理想仪器。适用于学校、科研、工厂等部门使用。金相试样镶嵌机口碑好。北京低速精密金相抛光机

金相磨抛机（双盘）PC-20产品特点：1、外壳采用新型环保工程塑料材料一体成型，表面光滑美观、免喷漆，表面划痕修复简单。2、锥度磨盘系统，更换清理更容易。3、大口径的排水管道，解决易堵问题。4、底盘转动平稳，噪音小，支持快速转换盘系统。5、无极调速和三档定速能无极调速和快速定位常用转速。可快速切换到预磨和抛光模式。6、水流量可调。金相磨抛机（双盘）PC-20产品特点：1、外壳采用新型环保工程塑料材料一体成型，表面光滑美观、免喷漆，表面划痕修复简单。2、锥度磨盘系统，更换清理更容易。3、大口径的排水管道，解决易堵问题。4、底盘转动平稳，噪音小，支持快速转换盘系统。5、无极调速和三档定速能无极调速和快速定位常用转速。可快速切换到预磨和抛光模式。6、水流量可调。浙江大型自动金相抛光砂纸自动研磨抛光机 恒定电压恒定电流。

1、一款专门于样品冷镶嵌的设备。通过对样品和镶嵌树脂抽真空，可除去样品和镶嵌树脂中的气体。这样样品中的空洞将可被镶嵌树脂填充，样品和镶嵌树脂之间不出现缝隙。该设备紧凑、快速、使用方便。可同时镶嵌6个直径为30mm的样品。2、该设备可用于各种样品的冷镶嵌，尤其是线路板、粉末冶金材料等的镶嵌。在电子行业中，还可与染色剂配合，用于焊接缺陷的检查。粉末冶金材料等的镶嵌。在电子行业中，还可与染色剂配合，用于焊接缺陷的检查。

金相切割片一、用途金相切割片主要用于金相制样过程中样品切割，金相切割片脱胎于普通砂轮切割中的湿式砂轮切割片，在提升了切割精度和切割温度控制后形成了适合金相制样需求的金相切割片，也是以氧化铝树脂切割片，碳化硅树脂切割片和金刚石烧结切割片三个类型为主。所有切割片均采用**度树脂盒推荐磨料制作而成，切削锋利、不易破裂、切削热极小，样品热影响层浅，极大减少发热、不会对产生样品组织变化。二、参数1、LWA低软快刀：切削锋利，样品热影响层浅，和母体分割不会产生组织变化。树脂金刚石切割片 可连接自动滴液器功能。

全自动镶嵌机HC-300产品特点：1、电动液压系统精细控制压力，确保脆性试样。2、预热功能可以缩短制样加热时间。3、制样单元也控制系统隔离设计，方便清理维护。4、直观触摸屏的操作，参数设置方便，一键启动，同时可以看到制样温度与压力变化。5、***总制样剩余时间与进度条过程进度显示。6、支持中英文语言切换，屏幕显示亮度设置，3种提示音选择。7、强大用户自定义方法数据库，支持中英文输入，可存储25条方法数据，特殊需求可扩展。8、三种制样方法模式，适合不同材料试样。精密金相切割机 哪个厂家好？上海树脂金相试样镶嵌

金相抛光机设备 价格对比。北京低速精密金相抛光机

抛光粉一、用途                                                                                                抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅等组份组成。不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。通常，氧化铈抛光粉用于玻璃和含硅材料的抛光，氧化铝抛光粉用于不锈钢的抛光。                                    二、规格参数                                                                                                   1、金刚石抛光微分：粒度：0.25um, 0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 6um, 7um, 10um, 14um, 20um, 28um, 40um，供用户自己选用载体，进行研磨抛光；                                                                    2、氧化铝研磨抛光粉：粒度：0.05um,0.3um,0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 5um, 6um, 7um, 9um, 10um, 14um, 15um, 20um, 28um, 40um，用于研磨抛光；                                                              3、碳化硅研磨抛光粉：粒度：0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3.5um, 7um, 10um, 14um, , 20um, 28um, 40um，用于研磨抛光；                                                                                                  4、氧化铬抛光粉：粒度：0.5um,1um，用于研磨抛光；                                                                                              北京低速精密金相抛光机