广东大型自动金相研磨抛光机

低倍组织热酸蚀装置HSC-2000产品特点：1、采用计算机及可控硅控制低倍组织热酸蚀过程，独特的PID温度控制计算方法，消除了低倍组织制样过程的不确定性，提高低倍组织制样的重复性。2、触摸屏操控显示，简单直观。3、控制单元和酸蚀槽工作分开设计，增加控制单元工作寿命。4、酸蚀槽采用特殊材料制作，耐酸耐高温，封闭的酸蚀槽确保腐蚀溶液的挥发对环境的污染和人体的伤害。5、采用三层样品隔离放置方式，样品取放方便且增加了工作空间，改善了腐蚀***性。6、有排液阀门，方便排放腐蚀废液。7、样品托盘可完全取出，清洗容易。8、紧凑的酸蚀槽，完全可与抽风柜配合使用，增加工作环境的舒适性。9、尺寸多样性，完全可以按照客户要求定制。倒置金相显微镜 四孔转换、五孔转换。广东大型自动金相研磨抛光机

透反射正置金相显微镜OC-40MRT一、介绍OC-40MRT透反射正置金相显微镜根据市场需求重新优化配置整体性能，以优异的成像性能，舒适的操作体验，为客户提供高性价比的金相分析及工业检测解决方案。二、用途1、观察筒采用新生儿睡床比较好舒适角度（30°）的观察筒，能够缓解用户在长时间工作状态下的紧张与疲劳，保证比较好观察状态。观察筒上的刻度，方便用户自行调节比较好瞳距范围。2、落射照明器采用柯拉照明系统，带视场光阑、孔径光阑和斜照明装置；预设起偏镜、检偏镜与滤**插槽。单颗5WLED暖白光照明（3000-3300K），与同类LED照明相比，能很大程度降低观察者的视觉疲劳。视场光阑与孔径光阑采用拉杆装置，中心可调,能灵活调节照明范围的大小，有效避免杂光对图像的影响。起偏镜与检偏镜可实现简易偏光观察，您也可根据需求，选择不同颜色的滤**获得理想的观察效果。3、工具存放装置M4直柄内六角扳手随机存放，充分利用了机身的可用空间，触手可及的工具使您的操作更加便捷。4、随机限位装置可有效防止样品与物镜碰触，避免损伤。采用RX50M***的聚光系统，数值孔径更大，亮度更高，大幅提升透射光通过率。北京数显台式金相废气中和处理金相磨抛机单点加压。

金相转换盘1、磁性盘其表面有磁性，能快速方便的吸附在常规托盘上，可无故障吸住所有带金属底盘的预磨盘和抛光布轮。2、防粘盘两面均为自粘性表面，适用于承载各种自粘式砂纸及抛光织物，几乎可以无限止地使用而不会留下任何粘胶痕迹。无需清洗、无需清洗剂，使得所有的研磨和抛光载体得以快速转换，操作简便。金相转换盘1、磁性盘其表面有磁性，能快速方便的吸附在常规托盘上，可无故障吸住所有带金属底盘的预磨盘和抛光布轮。2、防粘盘两面均为自粘性表面，适用于承载各种自粘式砂纸及抛光织物，几乎可以无限止地使用而不会留下任何粘胶痕迹。无需清洗、无需清洗剂，使得所有的研磨和抛光载体得以快速转换，操作简便。

金相砂纸一、用途金相砂纸是用来做金相分析**的砂纸,具有耐水性,磨料有白刚玉（氧化铝）、碳化硅、以及混合磨料，以粒度均匀、磨削效果较好的碳化硅磨粒为主磨料，金相砂纸是采用上好的乳胶纸以静电植砂工艺制造出的，静电植砂的工艺具有磨粒分布均匀、磨削锋利、经久耐用的特点。应用于各大企业，院校，研究机构的物理实验室，做各类型材料的破坏性金相分析研磨。二、规格参数1、碳化硅（无背胶）方形：230mm×280mm（圆形：Φ200、Φ230、Φ250、Φ300）：P80，P120，P180，P240，P320，P400，P500，P600，P800，P1000，P1200,P1500，P2000，P2500,P40002、碳化硅（带背胶）圆形：Φ200、Φ230、Φ250、Φ300：P80，P120，P180，P240，P320，P400，P500，P600，P800，P1000，P1200,P1500，P2000，P2500,P40003、氧化铝（无背胶）方形230mm×280mm（圆形：Φ200、Φ230、Φ250、Φ300）：P80，P120，P180，P240，P320，P400，P500，P600，P800，P10004、氧化铝（带背胶）圆形：Φ200、Φ230、Φ250、Φ300：P80，P120，P180，P240，P320，P400，P500，P600，P800，P1000双盘双控金相磨抛机 工作时间可自行设定。

利用电化学原理进行金相样品的制备。该设备工作电压、电流范围大，功能齐全，既可用于金相试样的抛光，也可用于金相试样的腐蚀，具备制样快，重复性好等优点，是钢、铁，尤其是不锈钢及有色金属试样制备的理想设备。利用电化学原理进行金相样品的制备。该设备工作电压、电流范围大，功能齐全，既可用于金相试样的抛光，也可用于金相试样的腐蚀，具备制样快，重复性好等优点，是钢、铁，尤其是不锈钢及有色金属试样制备的理想设备。 金相试样镶嵌机口碑好。北京数显台式金相废气中和处理

晶间腐蚀仪器 用于焊接缺陷的检查。广东大型自动金相研磨抛光机

抛光粉一、用途                                                                                                抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅等组份组成。不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。通常，氧化铈抛光粉用于玻璃和含硅材料的抛光，氧化铝抛光粉用于不锈钢的抛光。                                    二、规格参数                                                                                                   1、金刚石抛光微分：粒度：0.25um, 0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 6um, 7um, 10um, 14um, 20um, 28um, 40um，供用户自己选用载体，进行研磨抛光；                                                                    2、氧化铝研磨抛光粉：粒度：0.05um,0.3um,0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3um, 3.5um, 5um, 6um, 7um, 9um, 10um, 14um, 15um, 20um, 28um, 40um，用于研磨抛光；                                                              3、碳化硅研磨抛光粉：粒度：0.5um, 1um, 1.5um, 2.5um, 3.5um, 7um, 10um, 14um, , 20um, 28um, 40um，用于研磨抛光；                                                                                                  4、氧化铬抛光粉：粒度：0.5um,1um，用于研磨抛光；                                                                                              广东大型自动金相研磨抛光机