昆山金属材料抛光布磨抛耗材

磨抛耗材，氧化铝抛光粉主要成份为Al2O3，另外含有分散剂、悬浮剂、润滑剂、乳化剂等辅助成份，普遍用于机器制备，光学加工，饰品加工，汽车修理维护等领域。成分:氧化铝抛光粉，主要成分是经过高温煅烧过的Al2O3粉体。用途:主要应用在餐具行业，饰品行业，汽车配件，光学镜片，机器电器配件等需要表面处理的行业。晶体硬度:制备氧化铝抛光粉的煅烧温度要高，一般都在1600以上，这样才能保证产品有很好的硬度。单晶大小与形状:单晶大小决定抛光产品表面纹路的粗细，容不容易清光。圆形或椭圆型的晶体容易抛出黑亮光，菱形晶体易抛出黄白光，片状或絮状晶体磨削力差不易出光。磨抛耗材，金刚石喷雾抛光剂用微米来表示，粒度约小，越适合精抛，粒度约大，越适合粗抛。昆山金属材料抛光布磨抛耗材

磨抛耗材，二氧化硅抛光液(VK-SP50W)使用范围：可用于微晶玻璃的表面抛光加工中；用于硅片的粗抛和精抛以及IC加工过程，适用于大规模集成电路多层化薄膜的平坦化加工；用于晶圆的后道CMP清洗等半导体器件的加工过程、平面显示器、多晶化模组、微电机系统、光导摄像管等的加工过程；普遍用于CMP化学机械抛光，如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、硬盘盘片、宝石、大理石等纳米级及亚纳米级抛光加工；本产品可以作为一种添加剂，也可应用于水性高耐候石材保护液、水性胶粘剂与高耐候外墙涂料的添加剂等。广东金相抛光润滑冷却液磨抛耗材价格多少磨抛材料，金刚石悬浮研磨抛光液完全降低了磨抛过程产生热损伤的可能性。

磨抛耗材，抛光液氧化铝具有比氧化硅更高的硬度、更好的化学稳定性等特点,传统上是一常用的研磨抛光材料,但由于该材料,特别的,在纳米化时候容易团聚,氧化铝抛光液给人们留下容易使表面产生划伤、划痕的印象,而长时间在蓝宝石晶体加工领域被慎重对待。我们通过精细的质量控制,成功地解决了氧化铝抛光液容易产生划痕等问题,在正常情况下,本抛光液可以实现Ra≤4A的粗糙度而无明显的划痕等缺陷,它可以作为抛光液使用,亦可与传统的氧化硅溶胶相配合,作为快速粗抛光液使用。

磨抛耗材，抛光原理抛光时由抛光微粉与磨面间的相对机械作用而使磨面抛光，其主要作用有：磨削作用抛光微粉嵌入抛光布间隙中，暂时被织物纤维所固定，露出部分刃口，在抛光时产生切削作用。滚压作用当抛光盘旋转时，暂时被固定的抛光微粉极易脱出或飞出盘外，这些脱出的抛光微粉在抛光织物和磨面间滚动，对磨面产生机械滚压作用，使表面凸起的金属移向凹陷处，造成高度变形污染区。滚压作用越强，变形区厚度越大，金属扰乱层也愈厚，易行成伪组织。磨抛材料，磁性盘能快速方便吸附在常规托盘上，可无故障吸住所有带金属底盘的预磨盘和抛光布轮。

磨抛耗材，氧化镁：为白色粉末，硬度较低，但颗粒细，在使用中破碎后仍持尖锐外形，故磨削作用强，适用于较软的有色金属及其合金的抛光和精抛。亦用于抛光检验非金属夹杂物和石墨的试样。由于氧化镁极易吸水变成氢氧化镁，当空气中有二氧化碳时，能形成碳酸镁。碳酸镁颗粒粗而硬度低，无抛光作用。故在使用中比较好将氧化镁微粉直接洒在抛光布上，再滴上蒸馏水调成糊状抛光。若用15％悬浮液时，须用蒸馏水调制，不能存放，抛光结束后应立即刷洗抛光盘，并把抛光布浸入2％盐酸水溶液中2-3h，使残留氧化镁和已结块的碳酸镁与盐酸作用形成可溶于水的氧化镁，使抛光布回复柔软，利于继续使用。磨抛材料，二氧化硅抛光液，用于多种材料纳米级的硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等抛光加工。湖南金刚石悬浮抛光液磨抛耗材

磨抛耗材，金相抛光润滑冷却液，具有极强的冷却、润滑、防锈性能。昆山金属材料抛光布磨抛耗材

磨抛耗材，氧化铝抛光液适用范围：用于树脂镜片自由曲面的抛光、传统车房抛光、红外及光学软材400-500磨耗度以及蓝宝石窗口片，衬底片的抛光等产品特点：顆粒分散均匀，不团聚，悬浮性好；颗粒分布适中，抛光精度高；抛光速度快，表面质量高；环保性，低气味，低排放,无有机物挥发主要技术指标：状态乳白色悬浮液，静止久存放表层略有清液。应用领域：树脂镜片自由曲面的抛光，树脂镜片传统车房抛光，红外及光学软材400-500磨耗度，蓝宝石窗口片、衬底片的抛光。昆山金属材料抛光布磨抛耗材

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