南通手自一体金相磨抛机厂家批发
金相磨抛机(双盘双控PC-2V)在金相试验室,金相试样制备过程中,预磨、抛光、研磨三种功能集为一身,可适应多种材料的试样制备,磨抛盘的转速可操作,是企业、科研单位以及各大院校试验室的理想制样设备。特点:外壳采用新型环保工程塑料材料一体成型,表面光滑美观、免喷漆,表面划痕修复简单。锥度磨盘系统,更换清理更容易。大口径的排水管道,拆卸方便,便于清理,不容易堵塞。底盘转动平稳,噪音低,支持快速转换盘系统。双工位操作,增加使用高效性和灵活性。无极调速和三档定速能无极调速和快速定位常用转速。可快速切换到预磨合抛光模式。水流量可调。金相磨抛机(全自动)同时可以暂停查看制样效果,每部工序能精确的制样和节省制样时间。南通手自一体金相磨抛机厂家批发
金相磨抛机
金相磨抛机常配用耗材:金相砂纸:240、600、1000、1500#(其他规格400、2000#等)适用于常规金属类样件的研磨。金刚石磨盘:240、600、1000、1500#(其他规格400、2000#等)适用于超硬材料样件的研磨。金刚石砂纸:粒度:45-0.3um(适合超硬材料的精密研磨及粗抛,如陶瓷、晶体等材料)。抛光布料:呢料、丝绒、羊毛等(对特殊材料也需要采用粗抛、精抛等多道抛光工艺)。金刚石抛光剂:粒度:40-0.5um(抛光辅料,适合各类材料的抛光)。金刚石悬浮液:粒度:40-0.5um(比较常用的抛光辅料,更适合自动磨抛机使用)。氧化铝抛光粉:粒度:30-0.5um (适合碳钢类样件的抛光)。磁性磨盘:更便于更换砂纸及抛光布料。 南通手自一体金相磨抛机厂家批发金相磨抛机(全自动)磨头转速:30-150r/min。
金相磨抛机:一般把单相合金或纯金属的化学浸蚀主要看作是化学溶解过程。浸蚀剂首先把磨面表层很薄的变形层溶解掉,接着就对晶界起化学溶解作用。这是因为晶界上原子排列得特别紊乱,其自由能也较高,所以晶界处较容易受浸蚀而呈沟凹,见图(1-15)(b)。这时显微镜下就可看到固溶体或纯金属的多面体晶粒。若继续浸蚀则会对晶粒产生溶解作用。金属原子的溶解大都是沿原子排列密的面进行的。由于金相试样一般都是多晶体,各晶粒的取向不会一致,因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的,所以每一颗晶粒溶解的结果不一样,都把按原子排列密的面露在表面,也即浸蚀后每个晶粒的面与原磨面各倾了一定的角度。。在垂直照明下,各晶粒的反射光方向不一致,就显示出亮度不一致的晶粒。
金相磨抛机磨抛:取下塑料挡水圈及压圈,将背胶的抛光织物粘贴在磨抛盘上。如果采用不带背胶的抛光织物,则应平铺于磨抛盘上。注意在粘贴或平铺抛光织物时,要保证平整和粘贴牢固。将压圈紧压在磨抛盘上,从而固定抛光织物。注意压圈一定要压紧压实,尤其是采用不带背胶的抛光织物进行抛光时,更应注意。在抛光织物表面滴上适量的抛光液或涂上适量的抛光膏。使用抛光膏要注意加少量的水才能进行抛光。放回挡水圈,并将旋钮开关旋转至开启位置,此时电源指示灯亮起,磨拋盘开始旋转,金相磨抛机(全自动)7寸触摸屏操作控制,可快速切换到预磨合抛光模式。
金相磨抛机:金相工作者的经验是:在金相试样磨光过程中要多下功夫,因为抛光的作用能去除表层很薄一层金属,所以抛光结果在很大程度上取决于前几道工序的质量。有时抛光之前磨面上留有少量几条较深的磨痕,即使增加抛光时间也难以除去,一般必须重新磨光。故抛光之前应仔细检查磨面,是否留有单一方向均匀的细磨痕否则应重新磨光,以免白费时间。这是提高金相试样制备效率的重要环节。抛光后的表面在放大200倍的显微镜下观察应基本上无磨痕和磨坑,抛光方法有机械抛光、电解抛光及化学抛光等。金相磨抛机(双盘双控)预磨、抛光、研磨三种功能融为一体。南通手自一体金相磨抛机厂家批发
金相磨抛机可除去金相试样磨面上由细磨留下的磨痕,成为平整无疵的镜面。南通手自一体金相磨抛机厂家批发
金相磨抛机选择磨盘更换耗材:手动按上升控件,磨头会往上移动,我们就可以在磨盘上操作更换磨料耗材,该设备配有快速转换系统,可快速进行制样耗材得到快速切换(但必须使用背部带胶的耗材或者金刚石研磨盘。此方式为常用方式)。其次手动按下下降控件(下降之前注意磨头所对下方不能太靠近边缘,避免损坏设备外壳)磨头会下降靠近磨盘,调整好磨头夹持盘位置,一般靠边缘,可以充分的利用好耗材,还可以更好的保证冷却液及抛光液能接触到样品,保证制样质量。(试样夹具座/试样移动盘的位置应该令试样离制备盘边缘 3 – 4 mm 的位置) 南通手自一体金相磨抛机厂家批发
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