鄞州区工业有机废气处理设备

时间:2021年06月20日 来源:

废气处理设备是按什么来进行分类的?

按照工作原理的区别对废气设备进行分类,可大致分为四种:第一种是废气处理吸收设备。它主要是利用一些不容易进行挥发的溶液对废气进 行吸收并且进行分离的工作方法,对于这种设备可以进行回收再利用,所以它具有环保的功能。第二种是废气处理吸附设备。它主要是利用多孔物质对废气进行吸附 并且使其进行脱落的过程,它的运行过程可以进行反复的操作,所以它的净化废气的效果比较明显。第三种是废气处理氧化催化设备。这种方法主要采用的是对这 些废气进行氧化还原反应,**终生成水和二氧化碳,臭氧氧化处理工艺属于此类,其原理是利用臭氧发生器产生足量的臭氧(氧化性极强)注入反应室与废气分子发生反应,**终产生无害无臭的物质排出。第四种是废气处理低温等离子设备。它主要运用的原 理是在低温的环境下对废气进行分离的过程。


废气处理设备的市场前景怎么样?鄞州区工业有机废气处理设备

废气处理设备的原理是什么?

基泰环境工程 废气处理方式:低温等离子法、活性炭吸附法、光催化裂解法、生物分解法、燃烧法。 1.低温等离子法: 利用含高能量活性基团的等离子体分解废气分子,生成二氧化碳和水,从而达到净化废气的目的。 2.活性炭吸附法: 通过活性炭直接吸附有机气体。 3.光催化裂解法: 采用高能光波管与TIO2相互作用,在光波净化设备内,将污染物裂解,氧化。 4.生物分解法: 利用循环水流,将污染物溶于水中,再由水中培养的微生物降解为低害物质。 5.燃烧法: 通过焚烧炉,催化燃烧装置,高温燃烧去除废气中的有害物质。江苏山淼环境专业涂装喷漆有机废气处理。


鄞州区工业有机废气处理设备废气处理的环保设备有哪些?

低温等离子体

低温等离子体是继固态、液态、气态之后的物质第四态,当外加电压达到气体的着火电压时,气体分子被击穿,产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。放电过程中虽然电子温度很高,但重粒子温度很低,整个体系呈现低温状态,所以称为低温等离子体。低温等离子体降解污染物是利用这些高能电子、 自由基等活性粒子和废气中的污染物作用,使污染物分子在极短的时间内发生分解,并发生后续的各种反应以达到降解污染物的目的。

低温等离子体空气净化设备能够明显治理的污染有: VOC、恶臭气体、异味气体、油烟、粉尘,也可用于消毒除菌。低温等离子体技术是一种全新的净化过程,不需要任何 添加剂、不产生废水、废渣,不会导致二次污染。


气处理设备

基本内容

气处理设备主要包括 气脱硫塔、 气 洗涤塔、 吸收塔、吸收介质传输管网、囱及道等,气处理设备主要应用于电力行业、化工行业、焦化行业、冶金行业以及具有自备锅炉的制造行业等,其主要功能是将燃料燃烧产生的气中具有污染性、腐蚀性气态离子或分子通过化学反应吸收,使气得到净化,可以直接排放到大气中而不污染环境。

气脱硫的工艺有很多种,如石灰石=石膏法(WLST)、海水法(FGD)、氨法、电子束法、循环脱化床法等等,而国内**常用的脱硫工艺有三种,即石灰石=石膏法、海水法、氨法,其中石灰石=石膏法脱硫是国内大部分内陆燃煤电厂优先的脱硫工艺,海水脱硫由于工艺本身的特点,地域性比较强,主要用于沿海地区,氨法脱硫主要应用于气处理量不大的中小型锅炉,主要是生产型企业自备锅炉的气净化


废气处理设备的型号。

稀释扩散法

原理:将有臭味地气体通过囱排至大气,或用无臭空气稀释,降低恶臭物质浓度以减少臭味。适用范围:适用于处理中、低浓度的有排放的恶臭气体。优点:费用低、设备简单。缺点:易受气象条件限制,恶臭物质依然存在。

水吸收法

原理:利用臭气中某些物质易溶于水的特性,使臭气成分直接与水接触,从而溶解于水达到脱臭目的。适用范围:水溶性、有排放源的恶臭气体。优点:工艺简单,管理方便,设备运转费用低 产生二次污染,需对洗涤液进行处理。缺点:净化效率低,应与其他技术联合使用,对 硫醇, 脂肪酸等处理效果差。

曝气式活性污泥脱臭法

原理:将恶臭物质以曝气形式分散到含活性污泥的混和液中,通过悬浮生长的微生物降解恶臭物质 适用范围广。适用范围:截至2013年,日本已用于粪便处理场、污水处理厂的臭气处理。优点:活性污泥经过驯化后,对不超过极限负荷量的恶臭成分,去除率可达99.5%以上。缺点:受到曝气强度的限制,该法的应用还有一定局限。


废气处理设备有哪些大分类?鄞州区工业有机废气处理设备

工业废气处理设备有哪些?鄞州区工业有机废气处理设备

光催化和生物净化设备

光催化是常温深度反应技术。 光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成0毒无害的产物,而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁,即使用常规的催化、氧化方法亦需要几百度的高温。

从理论上讲,只要 半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂。常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是**宽泛使用和研究的单一化合物 光催化剂。


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