重庆Nanoscribe灰度光刻

Nanoscribe称QuantumX是世界上**基于双光子灰度光刻技术（two-photongrayscalelithography，2GL）的工业系统，目前该技术正在申请专利。2GL将灰度光刻技术与Nanoscribe的双光子聚合技术相结合，可生产折射和衍射微光学以及聚合物母版的原型。该系统配备三个用于实时过程控制的摄像头和一个树脂分配器。为了简化硬件配置之间的转换，物镜和样品夹持器识别会自动运行。QuantumX的软件能实时控制和监控打印作业，并通过交互式触摸屏控制面板进行操作。为了更好地管理和安排用户的项目，打印队列支持连续执行一系列打印作业。Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司为您详细讲解灰度光刻技术。重庆Nanoscribe灰度光刻

    基于双光子聚合(2PP)，一种提供比较高精度和完整设计自由度的增材制造方法和Nanoscribe专有的双光子灰度光刻(2GL)技术，Nanoscribe认为直接激光写入系统是微加工的比较好选择几乎任何，在面积达25cm²的区域上都具有亚微米级精度。Nanoscribe的联合创始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，该公司正在通过其新机器为科学和工业用途的晶圆级高精度微制造设定新标准。“虽然QuantumX已经通过双光子灰度光刻技术推动了平面微光学器件的超快速制造，但我们希望QuantumX形状能够使基于双光子聚合的高精度3D打印成为高效可靠的工具用于研究实验室和工业中的快速原型制作和批量生产。”。 湖北Nanoscribe灰度光刻无掩膜激光直写Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司为您讲解高速灰度光刻微纳加工打印系统。

作为欧盟光子计算项目PHOENICS（2020Horizont欧盟地平线科研项目）的成员，Nanoscribe携手德国明斯特大学，与全球光子计算领域的**一起，展开了为期四年的科研项目，以实现超高宽带的高能效千兆计算处理能力，用于新一代人工智能（AI）应用的计算平台。Nanoscribe将为光子封装技术开发新的硬件和软件解决方案。各种不同光子平台都有着不同类型的光子耦合接口，而这正是光子封装系统工业化的主要困难和挑战。双光子无掩模光刻系统QuantumX作为硬件载体框架，并计划建立一个先进的平台，成为下一代光子封装技术的行业榜样。

Nanoscribe成立于2007年，凭借着尔斯鲁厄理工学院（KIT）的技术背景和卡尔蔡司公司（CarlZeissAG）的支持，经过十几年的不断研究和成长成为了现在世界公认的微纳米加工技术和3D打印市场的带领者，并于2017年在上海成立分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司。公司主要产品有基于双光子聚合技术（Two-PhotonPolymerization）并拥有多项国际专项的双光子微纳3D打印系统PhotonicProfessionalGT2。全球头一台工业级双光子灰度光刻（2GL®)微纳打印设备QuantumX受到普遍关注并被众多高学府和高科技单位所采用，例如哈佛大学，牛津大学等出名的院校，华为公司等。可应用于微纳机器人，再生医学工程，微纳光学，力学超材料等不同领域。如需了解更多全新工业级双光子灰度光刻微纳打印系统Quantum X的内容，请咨询Nanoscribe中国分公司纳糯三维。

作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统，Quantum X可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版，可适用于批量生产的流水线工业程序，例如注塑，热压花和纳米压印等加工流程，从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点，同时缩短创新微纳光学器件（如衍射和折射光学器件）的整体制造时间。另外，QuantumX打印系统非常适合DOE的制作。该系统的无掩模光刻解决方案可以满足衍射光学元件所需的横向和纵向高分辨率要求。基于双光子灰度光刻技术(2GL®)的QuantumX打印系统可以实现一气呵成的制作，即一步打印多级衍射光学元件，并以经济高效的方法将多达4,096层的设计加工成离散的或准连续的拓扑。基于双光子灰度光刻技术 (2GL ®)的Quantum X打印系统可以实现一气呵成的制作。湖南高分辨率灰度光刻无掩膜激光直写

Nanoscribe中国分公司-纳糯三维科技（上海）有限公司为您介绍双光子灰度光刻微纳打印系统。重庆Nanoscribe灰度光刻

    Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高。而利用增材制造即可简单一步实现多级衍射光学元件，可以直接作为原型使用，也可以作为批量生产母版工具。 重庆Nanoscribe灰度光刻

纳糯三维科技（上海）有限公司成立于2017-11-08，位于上海市徐汇区桂平路391号3号楼11层1106A室，公司自成立以来通过规范化运营和高质量服务，赢得了客户及社会的一致认可和好评。本公司主要从事PPGT2，Quantum X系列，双光子微纳激光直写系统，双光子微纳光刻系统领域内的PPGT2，Quantum X系列，双光子微纳激光直写系统，双光子微纳光刻系统等产品的研究开发。拥有一支研发能力强、成果丰硕的技术队伍。公司先后与行业上游与下游企业建立了长期合作的关系。Nanoscribe以符合行业标准的产品质量为目标，并始终如一地坚守这一原则，正是这种高标准的自我要求，产品获得市场及消费者的高度认可。纳糯三维科技（上海）有限公司通过多年的深耕细作，企业已通过仪器仪表质量体系认证，确保公司各类产品以高技术、高性能、高精密度服务于广大客户。欢迎各界朋友莅临参观、 指导和业务洽谈。