湖南微纳光刻3D打印无掩膜激光直写

时间:2023年01月12日 来源:

双光子聚合(2PP)是一种可实现比较高精度和完全设计自由度的增材制造方法。而作为同类比较好的3D微加工系统QuantumXshape具有下列优异性能:首先,在所有空间方向上低至100纳米的特征尺寸控制,适用于纳米和微米级打印;其次制作高达50毫米的目标结构,适用于中尺度打印。高速3D微纳加工系统QuantumXshape可实现出色形状精度和高精度制作。这种高质量的打印效果是结合了特别先进的振镜系统和智能电子系统控制单元的结果,同时还离不开工业级飞秒脉冲激光器以及平稳坚固的花岗岩操作平台。QuantumXshape具有先进的激光焦点轨迹控制,可操控振镜加速和减速至比较好扫描速度,并以1MHz调制速率动态调整激光功率。QuantumXshape带有独特的自动界面查找功能,可以以低至30纳米的精度检测基板表面。这种在比较高扫描速度下的纳米级精度体现,再加上自校准程序,可在特别短的时间内实现可靠和准确的打印,为3D微纳加工树立了新榜样。这些优异的性能使QuantumXshape成为快速原型制作和应用于微纳光学、微流体、材料表面工程、MEMS等其他领域中晶圆级规模生产的理想工具。想要了解更多双光子微纳3D打印技术信息,敬请咨询Nanoscribe中国分公司纳糯三维科技(上海)有限公司。湖南微纳光刻3D打印无掩膜激光直写

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QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系统,用于快速原型制作和晶圆级批量生产,以充分挖掘3D微纳加工在科研和工业生产领域的潜力。该系统是基于双光子聚合技术(2PP)的专业激光直写系统,可为亚微米精度的2.5D和3D物体的微纳加工提供极高的设计自由度。QuantumXshape可实现在6英寸的晶圆片上进行高精度3D微纳加工。这种效率的提升对于晶圆级批量生产尤其重要,这对于科研和工业生产领域应用有着重大意义。全新QuantumXshape作为Nanoscribe工业级无掩膜光刻系统QuantumX产品系列的第二台设备,可实现在25cm²面积内打印任何结构,很大程度推动了生命科学,微流体,材料工程学中复杂应用的快速原型制作。QuantumXshape作为具备光敏树脂自动分配功能的直立式打印系统,非常适合标准6英寸晶圆片工业批量加工制造。浙江2GL3D打印多少钱在科研领域,Nanoscribe 的系列3D打印设备帮助推动着微纳光学,微机电系统等等领域的研究和发展。

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Nanoscribe公司成立于2007年,总部位于德国卡尔斯鲁厄,秉持着卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)的技术背景的德国卡尔蔡司公司的支持,经过十几年的不断研究和成长,已然成为微纳米生产的带领者,一直致力于推动诸如力学超材料,微纳机器人,再生医学工程,微光学等创新领域的研究和发展,并提供优化制程方案。如今,Nanoscribe客户遍布全球30个国家,超过1500名用户正在使用Nanoscribe3D打印系统。这些大学包含哈佛大学、加州理工学院、牛津大学、伦敦帝国理工学院和苏黎世联邦理工学院等等。为了拓展并加强中国及亚太地区的销售推广和售后服务范围,Nanoscribe于2017年底在上海成立了独资子公司-纳糯三维科技(上海)有限公司。自Nanoscribe进军中国市场以来,已有20多家出名大学和研究所成为了Nanoscribe用户,其中包括多所C9前列高校联盟成员,例如:北京大学,复旦大学,南京大学等等。

QuantumXshape作为理想的快速成型制作工具,可实现通过简单工作流程进行高精度和高设计自由度的制作。作为2019年推出的头一台双光子灰度光刻(2GL®)系统QuantumX的同系列产品,QuantumXshape提升了3D微纳加工能力,即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造,以达到高水平的生产力和打印质量。总而言之,工业级QuantumX打印系统系列提供了从纳米到中观尺寸结构的非常先进的微制造工艺,适用于晶圆级批量加工。作为全球头一台双光子灰度光刻激光直写系统,QuantumX可以打印出具有出色形状精度和光学质量表面的高精度微纳光学聚合物母版,可适用于批量生产的流水线工业程序,例如注塑,热压花和纳米压印等加工流程,从而拓展微纳加工工业领域的应用。2GL与这些批量生产流水线工业程序的结合得益于新技术的亚微米分辨率和灵活性的特点,同时缩短创新微纳光学器件(如衍射和折射光学器件)的整体制造时间。Nanoscribe微纳米3D打印全方面涉足中国市场。

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻,刻蚀和对准工艺,衍射光学元件(DOE)的传统制造耗时长且成本高。而利用增材制造即可简单一步实现多级衍射光学元件,可以直接作为原型使用,也可以作为批量生产母版工具。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技(上海)有限公司邀您一起探讨双光子微纳3D打印技术信息。双光子聚合3D打印微纳光刻

Nanoscribe是微纳米生产的和3D打印市场的带领人物。湖南微纳光刻3D打印无掩膜激光直写

Nanoscribe成立于2007年,是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe凭借其过硬的技术背景和市场敏锐度奠定了其市场优先领导地位,并以高标准来要求自己以满足客户的需求。Nanoscribe将在未来在基于双光子聚合技术的3D微纳加工系统基础上进一步扩大产品组合实现多样化,以满足不用客户群的需求。Nanoscribe作为一家纳米,微米和中尺度高精度结构增材制造**,一直致力于开发和生产和无掩模光刻系统,以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。在全球顶端大学和创新科技企业的中,有超过2,500多名用户在使用我们突破性的3D微纳加工技术和定制应用解决方案。湖南微纳光刻3D打印无掩膜激光直写

纳糯三维科技(上海)有限公司依托可靠的品质,旗下品牌Nanoscribe以高质量的服务获得广大受众的青睐。业务涵盖了PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统等诸多领域,尤其PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统中具有强劲优势,完成了一大批具特色和时代特征的仪器仪表项目;同时在设计原创、科技创新、标准规范等方面推动行业发展。同时,企业针对用户,在PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统等几大领域,提供更多、更丰富的仪器仪表产品,进一步为全国更多单位和企业提供更具针对性的仪器仪表服务。纳糯三维科技(上海)有限公司业务范围涉及作为Nanoscribe在中国全资子公司,纳糯三维科技(上海)有限公司可进行三维打印科技领域内的技术开发,技术转让,技术咨询,技术服务,三维打印设备,光电机一体化设备和相关零配件的批发,进出口,佣金代理,并提供相关配套服务,贸易信息咨询,企业管理咨询。等多个环节,在国内仪器仪表行业拥有综合优势。在PPGT2,Quantum X系列,双光子微纳激光直写系统,双光子微纳光刻系统等领域完成了众多可靠项目。

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