天津亚微米级双光子聚合3D打印

Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造**，一直致力于开发和生产和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。在全球顶端大学和创新科技企业的中，有超过2,500多名用户在使用我们突破性的3D微纳加工技术和定制应用解决方案。作为基于双光子聚合技术（2PP）的微纳加工领域市场带领者，Nanoscribe在全球30多个国家拥有各科领域的客户群体。基于2PP微纳加工技术方面的专业知识，Nanoscribe为顶端科学研究和工业创新提供强大的技术支持，并推动生物打印、微流体、微纳光学、微机械、生物医学工程和集成光子学技术等不同领域的发展。“我们非常期待加入CELLINK集团，共同探索双光子聚合技术在未来所带来的更大机遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler说道。双光子聚合的打印技术和方法有哪些？天津亚微米级双光子聚合3D打印

QuantumXshape是一款真正意义上的全能机型。基于双光子聚合技术，该激光直写系统不只是快速成型制作的特别好的机型，同时适用于基于晶圆上的任何亚微米精度的2.5D及3D形状的规模化生产。QuantumXshape在3D微纳加工领域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面结构应用上突破性的双光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有赖于其高能力的体素调制比和超精细处理网格，从而实现亚体素的尺寸控制。此外，受益于双光子灰度光刻对体素的微调，该系统在表面微结构的制作上可达到超光滑，同时保持高精度的形状控制上海德国双光子聚合技术3D打印Nanoscribe中国分公司-纳糯三维邀您一起探讨国内在双光子聚合技术领域的进展。

QuantumXshape在3D微纳加工领域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面结构应用上突破性的双光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有赖于其高能力的体素调制比和超精细处理网格，从而实现亚体素的尺寸控制。此外，受益于双光子灰度光刻对体素的微调，该系统在表面微结构的制作上可达到超光滑，同时保持高精度的形状控制。QuantumXshape不只是应用于生物医学、微光学、MEMS、微流道、表面工程学及其他很多领域中器件的快速原型制作的理想工具，同时也成为基于晶圆的小结构单元的批量生产的简易工具。通过系统集成触控屏控制打印文件来很大程度提高实用性。通过系统自带的nanoConnectX软件来进行打印文件的远程监控及多用户的使用配置，实现推动工业标准化及基于晶圆批量效率生产

在当前科技快速发展的时代，各种新技术层出不穷。其中，双光子聚合技术以其独特的优势和应用前景，正在引起越来越多的关注。双光子聚合是物质在发生双光子吸收后所引发的光聚合过程，它有着更多的应用前景，包括快速3D打印、光子晶体形成、高精度光子器件制造等领域。双光子聚合技术的优势：1. 高精度和高分辨率：双光子聚合技术采用光子作为加工单位，具有超高的精度和分辨率。与传统的加工技术相比，双光子聚合技术可以制造出更加精细、复杂的结构，从而实现更高级别的光学器件和制造工艺。2. 快速和高效：双光子聚合技术可以在短时间内完成大量材料的加工和制备。由于其高精度和高分辨率的特点，使得制造过程更加快速和高效。这不仅缩短了产品的研发周期，还能满足工业化大规模生产的需求。3. 高度灵活性和可扩展性：双光子聚合技术具有高度灵活性和可扩展性，可以在不同材料和表面上应用。这种技术不仅可以用于玻璃、塑料等常见材料的加工，还可以应用于半导体、生物医学等领域。这意味着双光子聚合技术的应用领域非常多，可以为不同行业提供定制化的解决方案。双光子聚合技术运用在哪些地方你了解吗？欢迎咨询纳糯三维科技（上海）有限公司。

Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造**，一直致力于开发和生产和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。在全球顶端大学和创新科技企业的中，有超过2,500多名用户在使用我们突破性的3D微纳加工技术和定制应用解决方案。作为基于双光子聚合技术（2PP）的微纳加工领域市场带领者，Nanoscribe在全球30多个国家拥有各科领域的客户群体。基于2PP微纳加工技术方面的专业知识，Nanoscribe为顶端科学研究和工业创新提供强大的技术支持，并推动生物打印、微流体、微纳光学、微机械、生物医学工程和集成光子学技术等不同领域的发展Photonic Professional GT2设备是将双光子聚合的极高精度技术特点与跨尺度的微观3D打印完美结合。天津亚微米级双光子聚合3D打印

Nanoscribe的双光子聚合技术具有极高设计自由度和超高精度的特点。天津亚微米级双光子聚合3D打印

Nanoscribe的PhotonicProfessional设备可用于将不同折射率的龙勃透镜和其他自由形状的光学组件打印于微孔支架材料上（例如孔状硅材及二氧化硅）。突出特点是不再像常规的双光子聚合（2PP）那样在基体表面进行直写，而是在孔型支架内。通过调整直写激光的曝光参数可以改变微孔支架内材料的聚合量，从而影响打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技术（通过激光束曝光控制的亚表面折射率）可以在保证亚微米级别的空间分辨率同时，对折射率的调节范围甚至超过0.3。为了证明SCRIBE新技术的巨大潜力，科研人员打印了众多令人瞩目的光学组件，例如已经提到的龙勃透镜。此外科研人员还打印了消色差双合透镜（如图示）。通过色散透镜聚焦的光因波长不同焦点位置也不尽相同。通过组合不同折射率的透镜可帮助降低透镜的色差。在给出的例子中，成像中的荧光强度和折射率高度相关，同时将打印的双透镜中的每个单独透镜可视化。天津亚微米级双光子聚合3D打印