合肥高效异质结PECVD

高效HJT电池整线装备，物理的气相沉积，PVD优点沉积速度快、基材温升低；所获得的薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好；溅射工艺可重复性好，精确控制厚度；膜层粒子的散射能力强，绕镀性好；不同的金属、合金、氧化物能够进行混合，同时溅射于基材上；缺点：常规平面磁控溅射技术靶材利用率不高，一般低于40％；在辉光放电中进行，金属离化率较低。反应等离子体沉，RPD优点：对衬底的轰击损伤小；镀层附着性能好，膜层不易脱落；源材料利用率高，沉积速率高；易于化合物膜层的形成，增加活性；镀膜所使用的基体材料和膜材范围广。缺点：薄膜中的缺陷密度较高，薄膜与基片的过渡区较宽，应用中受到限制（特别是电子器件和IC）；薄膜中含有气体量较高。釜川自主研发的“零界”高效异质结电池整线制造解决方案已实现设备国产化。合肥高效异质结PECVD

光伏异质结中的光电转换效率受到多种因素的影响，其中主要的因素包括以下几点：1.材料的选择：光伏异质结中的材料种类和质量对光电转换效率有着至关重要的影响。通常情况下，选择具有较高吸收系数和较低缺陷密度的材料可以提高光电转换效率。2.光照强度：光伏异质结的光照强度越高，其光电转换效率也会越高。因此，在实际应用中，需要根据光伏电池的使用环境和光照条件进行合理的设计和安装。3.温度：温度对光伏异质结的光电转换效率也有着显着的影响。一般来说，光伏电池的温度越低，其光电转换效率也会越高。4.结构设计：光伏异质结的结构设计也会对其光电转换效率产生影响。例如，通过优化电极结构和光伏电池的厚度等参数，可以提高光伏电池的光电转换效率。5.光伏电池的制备工艺：光伏电池的制备工艺也会对其光电转换效率产生影响。例如，采用高质量的制备工艺可以减少杂质和缺陷的存在，从而提高光伏电池的光电转换效率。山东自动化异质结PVD高效异质结电池PECVD设备是制备微晶硅的设备，其工艺机理复杂，影响因素众多，需要专业公司制备。

HJT电池所有制程的加工温度均低于250，避免了生产效率低而成本高的高温扩散制结的过程，而且低温工艺使得a-Si薄膜的光学带隙、沉积速率、吸收系数以及氢含量得到较精确的控制，也可避免因高温导致的热应力等不良影响。HJT电池转换效率高，拓展潜力大，工艺简单并且降本路线清晰，契合了光伏产业发展的规律，是有潜力的下一代电池技术。HJT电池为对称的双面结构，主要由 N 型单晶硅片衬底、正面和背面的本征/掺杂非晶硅薄膜层、双面的透明导电氧化薄膜(TCO) 层和金属电极构成。其中，本征非晶硅层起到表面钝化作用，P型掺杂非晶硅层为发射层，N 型掺杂非晶硅层起到背场作用。

异质结电池的优势有，优势一：工艺流程短HJT电池主工艺有4道：制绒、非晶硅沉积、TCO沉积、丝网印刷；远少于PERC（10个）和TOPCON（12-13个）；其中，非晶硅沉积主要使用PECVD方法。TCO薄膜主要有两种方法：RPD(反应等离子沉积)和PVD。优势二：转换效率高得益于N型硅衬底以及非晶硅对基底表面缺陷的双重钝化作用。目前量产效率普遍已在25%以上；更高的转化效率需要在前后表面使用掺杂纳米晶硅、掺杂微晶硅、掺杂微晶氧化硅、掺杂微晶碳化硅取代现有的掺杂。HJT效率潜力超28%，远高PERC电池。优势三：无LID&PID，低衰减无LID与PID：由于HJT电池衬底通常为N型单晶硅，而N型单晶硅为磷掺杂，不存在P型晶硅中的硼氧复合、硼铁复合等，所以HJT电池对于LID效应是免疫的。HJT电池的表面沉积有TCO薄膜，无绝缘层，因此无表面层带电的机会，从结构上避免PID发生。低衰减：HJT电池首年衰减1-2%，此后每年衰减0.25%，远低于PERC电池掺镓片的衰减情况（首年衰减2%，此后每年衰减0.45%)，因此HJT电池全生命周期每W发电量高出双面PERC电池约1.9%-2.9%。光伏异质结在建筑、农业、交通等领域的广泛应用，为绿色能源的发展提供了有力支持。

高效异质结电池整线装备，物理的气相沉积，PVD优点沉积速度快、基材温升低；所获得的薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好；溅射工艺可重复性好，精确控制厚度；膜层粒子的散射能力强，绕镀性好；不同的金属、合金、氧化物能够进行混合，同时溅射于基材上；缺点：常规平面磁控溅射技术靶材利用率不高，一般低于40％；在辉光放电中进行，金属离化率较低。反应等离子体沉，RPD优点：对衬底的轰击损伤小；镀层附着性能好，膜层不易脱落；源材料利用率高，沉积速率高；易于化合物膜层的形成，增加活性；镀膜所使用的基体材料和膜材范围广。缺点：薄膜中的缺陷密度较高，薄膜与基片的过渡区较宽，应用中受到限制（特别是电子器件和IC）；薄膜中含有气体量较高。釜川高效异质结电池湿法制绒设备全线采用臭氧工艺，降低了运营材料成本。浙江异质结无银

异质结电池具有环保、可持续的特点，能够为未来的可持续发展做出重要贡献。合肥高效异质结PECVD

异质结硅太阳能电池的工艺要求与同质结晶体硅太阳能电池相比，有几个优点：与同质结形成相比，异质结形成期间的热预算减少。a-Si:H层和TCO前接触的沉积温度通常低于250℃。与传统的晶体硅太阳能电池相比，异质结的形成和沉积接触层所需的时间也更短。由于异质结硅太阳能电池的低加工温度及其对称结构，晶圆弯曲被抑制。外延生长：在晶体硅和a-Si:H钝化层之间没有尖锐的界面，而外延生长的结果是混合相的界面区域，界面缺陷态的密度增加。在a-Si:H的沉积过程中，外延生长导致异质结太阳能电池的性能恶化，特别是影响了Voc。事实证明，在a-Si:H的沉积过程中，高沉积温度（>140℃）会导致外延生长。其他沉积条件，如功率和衬底表面的性质，也对外延生长有影响，通过使用a-SiO:H合金而不是a-Si:H，可以有效抑制外延生长。HJT的清洗特点:在制绒和清洗之后的圆滑处理导致了表面均匀性的改善，减少了微观粗糙度，并提高了整个装置的性能。此外，氢气后处理被发现有利于提高a-Si:H薄膜的质量和表面钝化。CVD对比：HWCVD比PECVD有几个优点。例如，硅烷的热解避免了表面的离子轰击，而且产生的原子氢可以使表面钝化。合肥高效异质结PECVD