西藏加工Mitsubishi三菱IGBT模块销售厂

    所述第二屏蔽多晶硅和对应的所述沟槽的底部表面和侧面之间通过第二屏蔽介质层隔离。被所述多晶硅栅侧面覆盖的所述阱区的表面用于形成沟道。由一导电类型重掺杂的发射区形成在所述多晶硅栅两侧的所述阱区的表面。所述多晶硅栅通过顶部对应的接触孔连接到由正面金属层组成的金属栅极，所述接触孔穿过层间膜。所述发射区通过顶部的对应的接触孔连接到由正面金属层组成的金属源极；令所述发射区顶部对应的接触孔为源极接触孔，所述源极接触孔还和穿过所述发射区和所述阱区接触。所述一屏蔽多晶硅和所述第二屏蔽多晶硅也分布通过对应的接触孔连接到所述金属源极。在所述集电区的底部表面形成有由背面金属层组成的金属集电极。通过形成于所述栅极结构两侧的具有沟槽式结构的所述第二屏蔽电极结构降低igbt器件的沟槽的步进，从而降低igbt器件的输入电容(cies)、输出电容(coes)和逆导电容(cres)，提高器件的开关速度；通过将所述一屏蔽多晶硅和所述第二屏蔽多晶硅和所述金属源极短接提高器件的短路电流能力；通过所述电荷存储层减少器件的饱和压降。进一步的改进是，所述半导体衬底为硅衬底；在所述硅衬底表面形成有硅外延层，所述漂移区直接由一导电类型轻掺杂的所述硅外延层组成。IGBT的静态特性主要有伏安特性、转移特性。西藏加工Mitsubishi三菱IGBT模块销售厂

    附图说明图1为本发明结构示意图；图2为本发明限压电路结构示意图。图中：100限压电路、110一齐纳二极管、120第二齐纳二极管、200控制电路、300限流电路。具体实施方式下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。本发明提供一种igbt驱动电路，将分立器件实现的限压电路集成在芯片中，节省了面积，降低了成本，将限压电路与igbt的驱动电路结合在一个功能块里进一步节省了面积和成本，同时借助igbt的驱动电路中的电阻限制了限压支路的电流，降低了功耗，保护了驱动芯片的安全，请参阅图1，包括限压电路100、控制电路200和限流电路300；请参阅图1-2，限压电路100包括：一齐纳二极管110；第二齐纳二极管120与一齐纳二极管110串联，两个齐纳二极管的选择由驱动输出限压的大小决定；请再次参阅图1，控制电路200包括限压电路控制输入lp、电阻r2、下拉电阻r3和控制管n3，限压电路控制输入lp与电阻r2串联，电阻r2与控制管n3相串联。西藏加工Mitsubishi三菱IGBT模块销售厂IGBT模块是由IGBT（绝缘栅双极型晶体管芯片）与FWD通过特定的电路桥接封装而成的模块化半导体产品。

    B）车载空调控制系统小功率直流/交流(DC/AC)逆变，使用电流较小的IGBT和FRD；C）充电桩智能充电桩中IGBT模块被作为开关元件使用；2）智能电网IGBT广泛应用于智能电网的发电端、输电端、变电端及用电端：1、从发电端来看，风力发电、光伏发电中的整流器和逆变器都需要使用IGBT模块。2、从输电端来看，特高压直流输电中FACTS柔性输电技术需要大量使用IGBT等功率器件。3、从变电端来看，IGBT是电力电子变压器（PET）的关键器件。4、从用电端来看，家用白电、微波炉、LED照明驱动等都对IGBT有大量的需求。3）轨道交通IGBT器件已成为轨道交通车辆牵引变流器和各种辅助变流器的主流电力电子器件。交流传动技术是现代轨道交通的技术之一，在交流传动系统中牵引变流器是关键部件，而IGBT又是牵引变流器的器件之一。IGBT国内外市场规模2015年国际IGBT市场规模约为48亿美元，预计到2020年市场规模可以达到80亿美元，年复合增长率约10%。2014年国内IGBT销售额是，约占全球市场的1∕3。预计2020年中国IGBT市场规模将超200亿元，年复合增长率约为15%。从公司来看，国外研发IGBT器件的公司主要有英飞凌、ABB、三菱、西门康、东芝、富士等。中国功率半导体市场占世界市场的50%以上。

    步骤二、在所述半导体衬底中形成多个沟槽。步骤三、在各所述沟槽的底部表面和侧面形一介质层，之后再在各所述沟槽中填充一多晶硅层，将所述一多晶硅层回刻到和所述半导体衬底表面相平。步骤四、采用光刻工艺将栅极结构的形成区域打开，将所述栅极结构的形成区域的所述沟槽顶部的所述一多晶硅层和所述一介质层去除。步骤五、在所述栅极结构的形成区域的所述沟槽的顶部侧面形成栅介质层以及所述一多晶硅层的顶部表面形成多晶硅间介质层。步骤六、在所述栅极结构的形成区域的所述沟槽的顶部填充第二多晶硅层，由所述第二多晶硅层组成多晶硅栅；所述多晶硅栅底部的所述一多晶硅层为一屏蔽多晶硅并组成一屏蔽电极结构，所述一屏蔽多晶硅侧面的所述一介质层为一屏蔽介质层。在所述栅极结构两侧的所述沟槽中的所述一多晶硅层为第二屏蔽多晶硅并组成第二屏蔽电极结构，所述第二屏蔽多晶硅侧面的所述一介质层为第二屏蔽介质层。一个所述igbt器件的单元结构中包括一个所述栅极结构以及形成于所述栅极结构两侧的所述第二屏蔽电极结构，在所述栅极结构的每一侧包括至少一个所述第二屏蔽电极结构。步骤七、在所述漂移区表面依次形成电荷存储层和第二导电类型掺杂的阱区。这个电压为系统的直流母线工作电压。

    一个所述igbt器件的单元结构中包括一个所述栅极结构以及形成于所述栅极结构两侧的所述第二屏蔽电极结构，在所述栅极结构的每一侧包括至少一个所述第二屏蔽电极结构。步骤七、如图3e所示，在所述漂移区1表面依次形成电荷存储层14和第二导电类型掺杂的阱区2。所述阱区2位于所述漂移区1表面。所述电荷存储层14位于所述漂移区1的顶部区域且位于所述漂移区1和所述阱区2交界面的底部，所述电荷存储层14具有一导电类重掺杂；所述电荷存储层14用于阻挡第二导电类载流子从所述漂移区1中进入到所述阱区2中。各所述沟槽101穿过所述阱区2和所述电荷存储层14且各所述沟槽101的进入到所述漂移区1中；被所述多晶硅栅6侧面覆盖的所述阱区2的表面用于形成沟道。所述电荷存储层14的掺杂浓度至少大于所述漂移区1的掺杂浓度的一个数量级。步骤八、如图3f所示，采用光刻定义加一导电类型重掺杂离子注入工艺在所述多晶硅栅6两侧的所述阱区2的表面形成发射区7。步骤九、如图3g所示，形成层间膜10。如图1所示，接触孔、正面金属层12，所述接触孔穿过所述层间膜10；对所述正面金属层12进行图形化形成金属栅极和金属源极。所述多晶硅栅6通过顶部对应的接触孔连接到所述金属栅极。尽管等效电路为达林顿结构，但流过MOSFET的电流成为IGBT总电流的主要部分。西藏加工Mitsubishi三菱IGBT模块销售厂

IGBT模块具有节能、安装维修方便、散热稳定等特点。西藏加工Mitsubishi三菱IGBT模块销售厂

    降低本征JFET的影响，和使用元胞设计几何图形，从而达到以上的目标。对两种1200VNPTIGBT进行比较：一种是其他公司的需负偏置关断的器件，一种是IR公司的NPT单正向栅驱动IRGP30B120KD-E。测试结果表明其他公司的器件在源电阻为56?下驱动时，dV/dt感生电流很大。比较寄生电容的数据，IR器件的三种电容也有减小：输入电容，CIES减小25％输出电容，COES减小35％反向传输电容，CRES减小68％图4寄生电容比较图5显示出IR器件的减小电容与V的关系，得出的平滑曲线是由于减小了JFET的影响。当V＝0V时，负偏置栅驱动器件的C为1100pF，IRGP30B120KD-E只有350pF，当VCE＝30V时，负偏置栅驱动器件的C为170pF，IRGP30B120KD-E的CRES为78pF。很明显，IRGP30B120KD-E具有非常低的C，因此在相同的dV/dt条件下dV/dt感生电流将非常小。图5IRGP30B120KD-E寄生电容与VCE的关系图6的电路用来比较测试两种器件的电路性能。两者的dV/dt感生电流波形也在相同的dV/dt值下得出。图6dV/dt感生开通电流的测试电路测试条件：电压率，dV/dt=直流电压，Vbus=600V外部栅到发射极电阻Rg=56?环境温度。西藏加工Mitsubishi三菱IGBT模块销售厂