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    为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种igbt驱动电路，包括限压电路、控制电路和限流电路。，所述限压电路、所述控制电路和所述限流电路相并联。，所述限压电路包括：一齐纳二极管；第二齐纳二极管，所述第二齐纳二极管与所述一齐纳二极管串联。，所述控制电路包括限压电路控制输入lp、电阻r2、下拉电阻r3和控制管n3，所述限压电路控制输入lp与所述电阻r2串联，所述电阻r2与所述控制管n3相串联，所述下拉电阻r3并联在所述电阻r2与所述控制管n3之间。，所述限流电路包括电阻r1和正向二极管n22，所述电阻r1与所述正向二极管n22相串联。与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明将分立器件实现的限压电路集成在芯片中，节省了面积，降低了成本，将限压电路与igbt的驱动电路结合在一个功能块里进一步节省了面积和成本，同时借助igbt的驱动电路中的电阻限制了限压支路的电流，降低了功耗，保护了驱动芯片的安全，lp接收到mcu的信号置高时，限压电路开始工作，a点电压被限压在设定所需要的电压u1，如希望igbt驱动输出限制在12v，此时a电压的设定u1＝12v+vbe，b点电压为u2＝12v+2vbe，终c点电压为12v，此时限压部分的支路电流被限制在(vcc-u2)/r1以下。IGBT的伏安特性是指以栅源电压Ugs为参变量时，漏极电流与栅极电压之间的关系曲线。广东品质Mitsubishi三菱IGBT模块供应商

    这样能降低栅电容，增强器件短路电流的能力，提高器件的抗冲击能力。3、本发明一实施例还设置了电荷存储层14，电荷存储层14结合第二屏蔽电极结构能更好的防止集电区9注入的少子进入到沟道区域中，从而能降低降低器件的饱和压降。本发明第二实施例igbt器件：如图2所示，是本发明实施例第二实施例igbt器件的结构示意图，本发明第二实施例igbt器件包括：本发明第二实施例器件和本发明一实施例器件的区别之处为，本发明第二实施例器件中，在各所述单元结构中，所述源极接触孔11和邻近的一个所述屏蔽接触孔合并成一个接触孔，邻近的所述屏蔽接触孔外侧的所述屏蔽接触孔11a呈结构。本发明一实施例方法：如图3a至图3g所示，是本发明一实施例方法各步骤中器件的结构示意图，本发明一实施例igbt器件的制造方法包括如下步骤：步骤一、如图3a所示，提供一半导体衬底，在所述半导体衬底表面形成由一导电类型轻掺杂区组成的漂移区1。所述半导体衬底为硅衬底。在所述硅衬底表面形成有硅外延层，所述漂移区1直接由一导电类型轻掺杂的所述硅外延层组成，所述阱区2形成于所述漂移区1表面的所述硅外延层中。步骤二、如图3a所示，在所述半导体衬底中形成多个沟槽101。山东常见Mitsubishi三菱IGBT模块销售厂IGBT(InsulatedGateBipolarTransistor)。

    在背面减薄之后以及形成所述集电区之前，还包括进行一导电类型重掺杂注入并进行退火在所述漂移区的底部表面形成有由一导电类重掺杂区组成的电场中止层，后续形成的所述集电区位于所述电场中止层的背面。进一步的改进是，所述电荷存储层的掺杂浓度至少大于所述漂移区的掺杂浓度的一个数量级。进一步的改进是，所述igbt器件为n型器件，一导电类型为n型，第二导电类型为p型；或者，所述igbt器件为p型器件，一导电类型为p型，第二导电类型为n型。本发明具有如下有益技术效果：1、本发明对器件单元结构中的栅极结构的屏蔽结构做了特别的设置，在栅极结构的两侧设置有形成于沟槽中的屏蔽电极结构即第二屏蔽电极结构，再加上形成于栅极结构的沟槽底部的一屏蔽电极结构，一起作用栅极结构的屏蔽电极，这种屏蔽电极结构由于是通过沟槽填充形成，有利于缩小器件的沟槽的步进，较小的沟槽步进能从而降低igbt器件的输入电容、输出电容和逆导电容，提高器件的开关速度；2、本发明同时还将一屏蔽电极结构对应的一屏蔽多晶硅和第二屏蔽电极结构对应的第二屏蔽多晶硅都通过接触孔连接到金属源极，实现和发射区的短接，这样能降低栅电容，增强器件短路电流的能力，提高器件的抗冲击能力。

    晶闸管等元件通过整流来实现。除此之外整流器件还有很多，如：可关断晶闸管GTO，逆导晶闸管，双向晶闸管，整流模块，功率模块IGBT，SIT，MOSFET等等，这里只探讨晶闸管。晶闸管又名可控硅，通常人们都叫可控硅。是一种功率半导体器件，由于它效率高，控制特性好，寿命长，体积小等优点，自上个世纪六十长代以来，获得了迅猛发展，并已形成了一门的学科。“晶闸管交流技术”。晶闸管发展到今，在工艺上已经非常成熟，品质更好，成品率大幅提高，并向高压大电流发展。目前国内晶闸管大额定电流可达5000A，国外更大。我国的韶山电力机车上装载的都是我国自行研制的大功率晶闸管。晶闸管的应用：一、可控整流如同二极管整流一样，可以把交流整流为直流，并且在交流电压不变的情况下，方便地控制直流输出电压的大小即可控整流，实现交流——可变直流二、交流调压与调功利用晶闸管的开关特性代替老式的接触调压器、感应调压器和饱和电抗器调压。为了消除晶闸管交流调压产生的高次谐波，出现了一种过零触发，实现负载交流功率的无级调节即晶闸管调功器。交流——可变交流。三、逆变与变频直流输电：将三相高压交流整流为高压直流，由高压直流远距离输送以减少损耗。输出漏极电流比受栅源电压Ugs的控制，Ugs越高，Id越大。

    消除了导通电阻中jfet的影响。同时缩小了原胞尺寸即步进(pitch)，提高原胞密度，每个芯片的沟道总宽度增加，减小了沟道电阻。另一方面，由于多晶硅栅面积增大，减少了分布电阻，有利于提高开关速度。igbt的饱和压降(vcesat)和关断损耗以及抗冲击能力是衡量igbt器件的几个重要指标。饱和压降是衡量igbt产品导通损耗的重要参数，降低igbt饱和压降可以有效降低igbt功率损耗，减小产品发热，提高功率转换效率。耐压特性也是是产品的重要参数之一。降低关断损耗可以限度的降低igbt在高频下的功率损耗。igbt产品抗冲击能力的主要体现就是产品抗短路能力，是体现产品可靠性的重要参数指标。随着技术的发展，对igbt的性能要求越来越高，如何更加灵活地调整饱和压降(vcesat)与关断损耗(eoff)的折中关系，在保证饱和压降不增大的前提下更好的优化开关损耗，同时提高器件的抗冲击能力以实用于高功率转换领域，成为本领域技术人员一直求的目标。技术实现要素：本发明所要解决的技术问题是提供一种igbt器件，能同时改善器件的饱和压降、关断损耗以及抗冲击的性能。为此，本发明还提供一种igbt器件的制造方法。为解决上述技术问题，本发明提供的igbt器件包括：漂移区。MOSFET驱动功率很小，开关速度快，但导通压降大，载流密度小。山东常见Mitsubishi三菱IGBT模块销售厂

它与GTR的输出特性相似．也可分为饱和区1、放大区2和击穿特性3部分。广东品质Mitsubishi三菱IGBT模块供应商

    步骤十一、在所述集电区的底部表面形成由背面金属层组成的金属集电极。通过形成于所述栅极结构两侧的具有沟槽式结构的所述第二屏蔽电极结构降低igbt器件的沟槽的步进，从而降低igbt器件的输入电容、输出电容和逆导电容，提高器件的开关速度；通过将所述一屏蔽多晶硅和所述第二屏蔽多晶硅和所述金属源极短接提高器件的短路电流能力；通过所述电荷存储层减少器件的饱和压降。进一步的改进是，所述半导体衬底为硅衬底。在所述硅衬底表面形成有硅外延层，所述漂移区直接由一导电类型轻掺杂的所述硅外延层组成，所述阱区形成于所述漂移区表面的所述硅外延层中。进一步的改进是，令各所述第二屏蔽多晶硅顶部对应的接触孔为屏蔽接触孔。在各所述单元结构中，所述源极接触孔和邻近的一个所述屏蔽接触孔合并成一个接触孔，邻近的所述屏蔽接触孔外侧的所述屏蔽接触孔呈结构。或者，在各所述单元结构中，所述源极接触孔和各所述屏蔽接触孔连接成一个整体结构。进一步的改进是，一个所述单元结构中包括5个所述沟槽，在所述栅极结构的每一侧包括二个所述第二屏蔽电极结构。进一步的改进是，所述沟槽的步进为1微米～3微米。进一步的改进是，步骤十中。广东品质Mitsubishi三菱IGBT模块供应商