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    一个所述igbt器件的单元结构中包括一个所述栅极结构以及形成于所述栅极结构两侧的所述第二屏蔽电极结构，在所述栅极结构的每一侧包括至少一个所述第二屏蔽电极结构。步骤七、如图3e所示，在所述漂移区1表面依次形成电荷存储层14和第二导电类型掺杂的阱区2。所述阱区2位于所述漂移区1表面。所述电荷存储层14位于所述漂移区1的顶部区域且位于所述漂移区1和所述阱区2交界面的底部，所述电荷存储层14具有一导电类重掺杂；所述电荷存储层14用于阻挡第二导电类载流子从所述漂移区1中进入到所述阱区2中。各所述沟槽101穿过所述阱区2和所述电荷存储层14且各所述沟槽101的进入到所述漂移区1中；被所述多晶硅栅6侧面覆盖的所述阱区2的表面用于形成沟道。所述电荷存储层14的掺杂浓度至少大于所述漂移区1的掺杂浓度的一个数量级。步骤八、如图3f所示，采用光刻定义加一导电类型重掺杂离子注入工艺在所述多晶硅栅6两侧的所述阱区2的表面形成发射区7。步骤九、如图3g所示，形成层间膜10。如图1所示，接触孔、正面金属层12，所述接触孔穿过所述层间膜10；对所述正面金属层12进行图形化形成金属栅极和金属源极。所述多晶硅栅6通过顶部对应的接触孔连接到所述金属栅极。IGBT综合了以上两种器件的优点，驱动功率小而饱和压降低。吉林贸易Mitsubishi三菱IGBT模块工厂直销

    附图说明图1为本发明结构示意图；图2为本发明限压电路结构示意图。图中：100限压电路、110一齐纳二极管、120第二齐纳二极管、200控制电路、300限流电路。具体实施方式下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。本发明提供一种igbt驱动电路，将分立器件实现的限压电路集成在芯片中，节省了面积，降低了成本，将限压电路与igbt的驱动电路结合在一个功能块里进一步节省了面积和成本，同时借助igbt的驱动电路中的电阻限制了限压支路的电流，降低了功耗，保护了驱动芯片的安全，请参阅图1，包括限压电路100、控制电路200和限流电路300；请参阅图1-2，限压电路100包括：一齐纳二极管110；第二齐纳二极管120与一齐纳二极管110串联，两个齐纳二极管的选择由驱动输出限压的大小决定；请再次参阅图1，控制电路200包括限压电路控制输入lp、电阻r2、下拉电阻r3和控制管n3，限压电路控制输入lp与电阻r2串联，电阻r2与控制管n3相串联。吉林贸易Mitsubishi三菱IGBT模块工厂直销IGBT的伏安特性是指以栅源电压Ugs为参变量时，漏极电流与栅极电压之间的关系曲线。

    由形成于半导体衬底表面的一导电类型轻掺杂区组成。第二导电类型掺杂的阱区，形成于所述漂移区表面。在所述漂移区的底部表面形成有由第二导电类重掺杂区组成的集电区。电荷存储层，所述电荷存储层形成于所述漂移区的顶部区域且位于所述漂移区和所述阱区交界面的底部，所述电荷存储层具有一导电类重掺杂；所述电荷存储层用于阻挡第二导电类载流子从所述漂移区中进入到所述阱区中。多个沟槽，各所述沟槽穿过所述阱区和所述电荷存储层且各所述沟槽的进入到所述漂移区中；一个所述igbt器件的单元结构中包括一个栅极结构以及形成于所述栅极结构两侧的第二屏蔽电极结构，在所述栅极结构的每一侧包括至少一个所述第二屏蔽电极结构。所述栅极结构包括形成于一个对应的所述沟槽中的一屏蔽多晶硅和多晶硅栅的叠加结构，所述一屏蔽多晶硅组成一屏蔽电极结构。所述多晶硅栅位于所述一屏蔽多晶硅的顶部，所述一屏蔽多晶硅和对应的所述沟槽的底部表面和侧面之间通过一屏蔽介质层隔离，所述一屏蔽多晶硅和所述多晶硅栅之间通过多晶硅间介质层隔离，所述多晶硅栅和所述沟槽的侧面之间通过栅介质层隔离。所述第二屏蔽电极结构由填充于所述栅极结构两侧的所述沟槽中的第二屏蔽多晶硅组成。

    所述阱区形成于所述漂移区表面的所述硅外延层中。进一步的改进是，令各所述第二屏蔽多晶硅顶部对应的接触孔为屏蔽接触孔。在各所述单元结构中，所述源极接触孔和邻近的一个所述屏蔽接触孔合并成一个接触孔，邻近的所述屏蔽接触孔外侧的所述屏蔽接触孔呈结构。或者，在各所述单元结构中，所述源极接触孔和各所述屏蔽接触孔连接成一个整体结构。进一步的改进是，所述一屏蔽介质层和所述第二屏蔽介质层的工艺条件相同且同时形成，所述一屏蔽多晶硅和所述第二屏蔽多晶硅的工艺条件相同且同时形成。进一步的改进是，一个所述单元结构中包括5个所述沟槽，在所述栅极结构的每一侧包括二个所述第二屏蔽电极结构。进一步的改进是，所述沟槽的步进为1微米～3微米。进一步的改进是，在所述漂移区和所述集电区之间形成有由一导电类型重掺杂区组成的电场中止层。进一步的改进是，所述igbt器件为n型器件，一导电类型为n型，第二导电类型为p型；或者，所述igbt器件为p型器件，一导电类型为p型，第二导电类型为n型。为解决上述技术问题，本发明提供的igbt器件的制造方法包括如下步骤：步骤一、提供一半导体衬底，在所述半导体衬底表面形成由一导电类型轻掺杂区组成的漂移区。IGBT处于导通态时，由于它的PNP晶体管为宽基区晶体管，所以其B值极低。

    措施：在三相变压器次级星形中点与地之间并联适当电容，就可以减小这种过电压。与整流器并联的其它负载切断时，因电源回路电感产生感应电势的过电压。变压器空载且电源电压过零时，初级拉闸，因变压器激磁电流的突变，在次级感生出很高的瞬时电压，这种电压尖峰值可达工作电压的6倍以上。交流电网遭雷击或电网侵入干扰过电压，即偶发性浪涌电压，都必须加阻容吸收路进行保护。3．直流侧过电压及保护当负载断开时或快熔断时，储存在变压器中的磁场能量会产生过电压，显然在交流侧阻容吸收保护电路可以抑制这种过电压，但由于变压器过载时储存的能量比空载时要大，还不能完全消除。措施：能常采用压敏吸收进行保护。4．过电流保护一般加快速熔断器进行保护，实际上它不能保护可控硅，而是保护变压器线圈。5．电压、电流上升率的限制4.均流与晶闸管选择均流不好，很容易烧坏元件。为了解决均流问题，过去加均流电抗器，噪声很大，效果也不好，一只一只进行对比，拧螺丝松紧，很盲目，效果差，噪音大，耗能。我们采用的办法是：用计算机程序软件进行动态参数筛选匹配、编号，装配时按其号码顺序装配，很间单。每一只元件上都刻有字，以便下更换时参考。这样能使均流系数可达到。动态特性又称开关特性，IGBT的开关特性分为两大部分。吉林贸易Mitsubishi三菱IGBT模块工厂直销

IGBT的开关特性是指漏极电流与漏源电压之间的关系。吉林贸易Mitsubishi三菱IGBT模块工厂直销

    所述阱区位于所述漂移区表面。所述电荷存储层位于所述漂移区的顶部区域且位于所述漂移区和所述阱区交界面的底部，所述电荷存储层具有一导电类重掺杂；所述电荷存储层用于阻挡第二导电类载流子从所述漂移区中进入到所述阱区中。各所述沟槽穿过所述阱区和所述电荷存储层且各所述沟槽的进入到所述漂移区中；被所述多晶硅栅侧面覆盖的所述阱区的表面用于形成沟道。步骤八、采用光刻定义加一导电类型重掺杂离子注入工艺在所述多晶硅栅两侧的所述阱区的表面形成发射区。步骤九、形成层间膜、接触孔、正面金属层，所述接触孔穿过所述层间膜；对所述正面金属层进行图形化形成金属栅极和金属源极。所述多晶硅栅通过顶部对应的接触孔连接到所述金属栅极。所述发射区通过顶部的对应的接触孔连接到所述金属源极；令所述发射区顶部对应的接触孔为源极接触孔，所述源极接触孔还和穿过所述发射区和所述阱区接触。所述一屏蔽多晶硅和所述第二屏蔽多晶硅也分布通过对应的接触孔连接到所述金属源极。步骤十、对所述半导体衬底进行背面减薄，进行第二导电类型重掺杂注入并进行退火在所述漂移区的底部表面形成有由第二导电类重掺杂区组成的集电区。吉林贸易Mitsubishi三菱IGBT模块工厂直销