南宁VCM清洁设备

微小器件对应型-旋风超高精密除尘模组设备是指对较小尺寸的器件、组件的超高精密清洁。在机械式除尘器中，旋风式除尘器是效率较高的一种。它适用于非黏性及非纤维性粉尘的去除，大多用来去除5μm以上的粒子，并联的多管清洁除尘设备装置对3μm的粒子也具有80～85%的除尘效率。选用耐高温、耐磨蚀和腐蚀的特种金属或陶瓷材料构造的清洁除尘设备，可在温度高达1000℃，压力达500×105Pa的条件下操作。清洁除尘设备是由进气管、排气管、圆筒体、圆锥体和灰斗组成。清洁除尘设备结构简单，易于制造、安装和维护管理，设备投资和操作费用都较低，已普遍用于从气流中分离固体和液体粒子，或从液体中分离固体粒子。在普通操作条件下，作用于粒子上的离心力是重力的5～2500倍，所以清洁除尘设备的效率明显高于重力沉降室。利用这一个原理基础成功研究出了一款除尘效率为百分之九十以上的旋风除尘装置。清洁除尘设备可以干法清灰，有利于回收有价值的粉尘。南宁VCM清洁设备

旋风清洁/除尘/除异物系统目前在如下场景有应用：1)FAB设备中内置轻型旋风模组头，以辅助搬运机器人传递晶圆过程中的清洁。2)晶圆Grinding Disk Wheel的旋风清洁。3)晶圆切割后的异物去除。4)内存芯片激光器标记后残留异物的去除。5)芯片流转用托盘异物的去除。6)芯片贴片前后的去除异物。清洁除尘设备的具体使用范围：机械加工制造业：清理各种金属切屑和粉尘，特别是铸铁加工更显示其优越性。玻璃纤维制造业：吸收玻璃纤维产品制造中的硬化表面打磨产生的粉尘和残渣。生物制药业：用于生产车间的除尘和净化。化工厂：电焊烟尘，焊接烟雾，粉状、粒状有害物质的吸收。热电厂：用于清理粉尘。微电子工业：用于生产车间的除尘、净化及剪切费料的回收。钢铁厂：炼钢、炼铁、焦化、烧结厂区、车间及设备输送带、转运站、高层平台、行车、轧机表面的清洁工作；减少停机时间，提高生产效率。封装清洁设备报价随着半导体技术的不断发展，对工艺技术的要求越来越高，尤其是对半导体晶片的表面清洁质量。

用户可以在新设工艺产线中加入卷对卷（薄膜、卷板)对应型-旋风超高精密除尘模组设备，或在原有工艺设备中的必要节点加装旋风模组单元，均可达到升级改善原有洁净度、提升良率、减少人工、增进效率的良好效果。影响清洁除尘设备的性能的因素：入口风速：入口风速对阻力和除尘效率的影响很大。从降低阻力考虑，希望低些；从提高处理风量和效率考虑，高一些较好；但超过一定限度时，阻力激增，而效率增加甚微。较佳入口风速因除尘设备的结构和处理的气体温度不同而异。气体温度：不同的气体温度将引起气体的比重和粘滞系数发生变化。当温度升高时，气体的相对密度减小，但粘滞系数增大。相对密度减小时，使阻力降低；而粘滞系数增大，使粉尘粒子沉降速度降低，导致效率降低。因此，应在处理高温气体时选取较高的值。

旋风超精密除尘、除异物设备不仅对平面，对凹凸面及立体表面部件也具有高效的洁净效果。在陶瓷封装中，通常采用金属膏状印刷电路板作为粘接区和封盖区。在这些材料表面电镀镍和金之前，采用晶圆清洁设备，可以去除有机污染物，显著提高镀层质量。引线框架的塑料封装形式仍是微电子封装领域的主流。主要采用导热、导电、加工性能好的铜合金材料作为引线框架。铜氧化物和其他有机污染物会导致密封模具和铜引线框架之间的分层，导致密封性能差和包装后的慢性漏气。同时，也会影响芯片的键合和引线键合的质量，保证引线框架的超清洁。保证包装可靠性和成品率的关键。晶圆清洁设备可以达到超净化和活化引线框架表面的效果。与传统湿法清洗相比，成品率有较大提高。清洁除尘设备的箱体的保温材料的厚度应根据实际工况进决定。

平面对应型清洁设备，是指对表面为水平面的器件、组件进行非接触式清洁。例如，对晶圆-芯片；显示器件-显示屏、背光模组、中间层材料（几种光学膜片）；FPCB-原片基板的非接触式精密除尘清洁。旋风平面对应型设计有短、中、长度，以及适正宽幅、超窄宽幅尺寸。整体为正长方形状，采用特有的一体式Profile结构工艺外观设计。内部由旋风高璇转轴及特制气嘴组成，其排列组合以多年现场经验和所积累的气流模拟量算法布置排列，可针对用户的不同使用场景设定使用。清洁除尘设备的排风管的直径和插入深度对清洁除尘设备除尘效率影响较大。广东半导体晶片清洁设备

非全长减阻杆虽然减阻效果不如全长减阻杆，但更有利于提高清洁除尘设备的除尘效率。南宁VCM清洁设备

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