工业酸铜光亮剂使用方法

氯离子的作用及影响：氯离子在光亮酸性镀铜工艺中具有极为重要的作用，适量的氯离子可以帮助添加剂发挥效果，镀出致密、光亮、平滑的镀层。如果氯离子含量过低，镀层在高、中电位区易出现起伏的条状，同时在低电位区有雾状镀层出现；如果氯离子含量过高时，镀层的光亮度和填平度会下降，阳极表面还会出现灰白色的薄膜而发生钝化。添加剂的消耗量：510MU：30－40毫升/千安培小时510A：60－80毫升/千安培小时510B：30－40毫升/千安培小时产品严格按照ISO9001:2008质量管理体系及ISO14000环境管理体系中的管理控制程序生产符合欧盟ROSH指令要求。工业酸铜光亮剂使用方法

    因为SF-AHEAD3号具有的填平能力和的低区性能，它已在生产中成功取代外资品牌酸铜光剂，达到降低成本的目标。二、低区填平能力极为，适用范围广形状复杂的工件要求良好的走位能力，工件的低电位区同样也必须填平到镜面光亮。普通的酸铜光亮剂在高区的效果还可以，但是到低区不是暗哑就是起雾，低区的填平能力就是检验酸铜光亮剂性能的试金石。SF�CAHEAD3号在低电位区的填平能力是它的与众不同之处，在这一点上它可以与外资品牌光亮剂媲美。正是因为SF�CAHEAD3号具有这个优点，才能在电镀市场获得的应用。三、B剂与众不同，辅助填平作用普通的酸铜B剂很难控制，加多了低区易起雾，加少了低区的填平差。长期以来很多人养成了大量加MU，不敢加B剂的习惯。SF�CAHEAD3号的B剂具有的辅助填平能力，使用范围较广，加多不容易起雾，反而会提升低电位区的填平效果。四、采用质量进口原料，品质稳定，容易维护在生产SF�CAHEAD3号过程中，全部采用欧美进口的染料和中间体，高纯度的原料分解产物极少，品质稳定，长期使用也不需要进行大处理。稳定成熟的SH-AHEAD3号酸铜光亮剂，减少了车间维护的成本。南山区酸铜光亮剂质量好仿金镀层防变色处理，铜和铜合金及镀银层防变色处理效果特佳。

有客户咨询时说，在使用酸铜光亮剂的生产过程中，镀液很不好控制，稍不注意就会出现各种各样的故障问题而影响生产，那么酸铜镀液该如何维护才比较好呢…有客户咨询时说，在使用酸铜光亮剂的生产过程中，镀液很不好控制，稍不注意就会出现各种各样的故障问题而影响生产，那么酸铜镀液该如何维护才比较好呢？1、严格控制各工艺参数在正常范围内。硫酸铜的浓度虽然可控制在较宽的范围内变动，但浓度差异会影响镀液的性能。当硫酸铜含量过低时，会使镀层光亮度下降;含量过高时，铜盐则容易在阳极表面形成结晶析出，造成阳极钝化。另外，镀液温度的变化、搅拌的强度以及电流密度参数都会直接影响工件镀层的质量。

    镀液组成及操作条件：镀液组成及工艺条件适用范围一般开缸用量硫酸铜180－220克/升200克/升纯硫酸30－40克/升33毫升/升氯离子70－140毫克/升100毫克/升开缸剂510Mu6－8毫升/升6毫升/升主光剂－－－35℃24－28℃阴极电流密度1－6安培/平方分米3－5安培/平方分米阳极电流密度－－（）磷铜角（－）电压－6伏（V）－6伏（V）搅拌方法空气或机械搅拌镀液配制方法：在预备槽中加入二分之一的水，加热至40－50℃；所用水的氯离子含量应低于70毫克/升，加入所需的硫酸铜，搅拌使其完全溶解。加入，搅拌一个小时以上，然后用过滤泵将镀液滤入清洁的电镀槽中，加水至接近水位。 良好的镀层外观条件，大部分减少后续处理工作量。

酸性镀铜光亮剂的研究可以追溯到上个世纪40年代。早采用的光亮剂是硫脲和硫脲的衍生物。当时被称为初级光亮剂(PrimeBrightener)。同时加入少量表面活性剂作为润湿剂(wettingagent)。初采用的整平剂采用的是有机染料。有机染料被称为第二级添加剂(Secondary Addition Agents)。有机多硫化物的研究和利用提升了酸性镀铜工艺的性能。近二十年来通过对表面活性剂、有机多硫化物、染料等成分的筛选和组合，获得了高光亮和整平的镀层。酸性光亮镀铜工艺已基本完善。本文将介绍其中有机染料的研究状况。.多用于塑料、磨具、镍网电镀以及电铸处理。盐田区酸铜光亮剂供应商

酸铜光亮剂是怎么使用的呢？工业酸铜光亮剂使用方法

    一种微酸性镀液光亮镀铜用光亮剂及其配方技术简介：本技术提供了一种微酸性镀液光亮镀铜用光亮剂，按每升电镀镀液中各原料的体积分数计，包括以下重量份的原料：硫酸铜120‑160g/L；硫酸40‑50g/L；氯离子80‑120g/L；主光剂；所述主光剂包括GB‑6MU剂和GB‑6A剂，其重量比分为：GB‑6MU剂3‑5mI/L，GB‑6A剂‑；所述GB‑6MU剂的主要成分为聚二硫二丙烷磺酸钠；所述GB‑6A剂的主要成分为酸性蓝。本技术所述的一种微酸性镀液光亮镀铜用光亮剂配方技术，制备工艺简单，操作简便，本技术所得的光亮剂具有的出光速度和特殊的整平功能，低电位光亮填平佳，镀层清亮饱满；镀层不易产生、麻砂，无须除膜，与其他镀层结合力好；镀层过程中消耗量少，使用简便，镀液稳定，容易控制；操作温度范围宽，12‑24℃都可以达到全光亮镀层。铜光亮剂配方配比及制作工艺流程。 工业酸铜光亮剂使用方法