江苏BOE蚀刻液批量定制

时间:2022年01月19日 来源:

    蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术,蚀刻技术分为湿蚀刻和干蚀刻,其中,湿蚀刻是采用化学试剂,经由化学反应达到蚀刻的目的,薄膜场效应晶体管液晶显示器(tft~lcd)、发光二极管(led)、有机发光二极管(oled)等行业用作面板过程中铟锡氧化物半导体透明导电膜(ito)的蚀刻通常采用盐酸和硝酸的混合水溶液。现有的制备装置在进行制备时会发热反应,使得装置外壳稳定较高,工作人员直接接触有烫伤风险,热水与盐酸接触会产生较为剧烈的反应,溅出容易伤害工作人员,保护性不足,盐酸硝酸具有较强的腐蚀性,常规的搅拌装置容易被腐蚀,影响蚀刻液的质量,用防腐蚀的聚四氟乙烯搅拌浆进行搅拌,成本过高,且混合的效果不好。所以,如何设计一种ito蚀刻液制备装置,成为当前要解决的问题。 苏州博洋专业生产,BOE蚀刻液。江苏BOE蚀刻液批量定制

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一种蚀刻方法,其特征在于,使用根据权利要求1至7中任一项所述的蚀刻液,在铜的存在下选择性地蚀刻钛。蚀刻液及蚀刻方法技术领域[0001]本发明涉及一种用来在铜的存在下选择性地蚀刻钛的蚀刻液及使用该蚀刻液的蚀刻方法。背景技术[0002]以往,在蚀刻钛时一直使用含有氢氟酸或过氧化氢的蚀刻液。例如文献1中提出了一种钛的蚀刻液,该钛的蚀刻液是用来在铜或铝的存在下蚀刻钛,并且该蚀刻液的特征在于:利用由10重量%至40重量%的过氧化氢、0.05重量%至5重量%的磷酸、0.001重量%至0.1重量%的膦酸系化合物及氨所构成的水溶液将pH值调整为7至9。[0003]但是,含有氢氟酸的蚀刻液存在毒性高河南一种BOE蚀刻液订做价格苏州博洋化学股份有限公司提供专业蚀刻液。

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苏州博洋化学股份有限公司成立于1999年,公司座落于风景秀丽的苏州市高新区浒关化工工业园,占地60亩,是一家集生产、销售、研发为一体的大型精细化工企业,公司秉承协作创新、持续的为客户创造价值的使命,努力构建面向未来的创新型和学习型企业。湿电子化学品适用于先进半导体封装测试、TFT、FPD平板显示、LED、晶体硅太阳能、PCB行业,并提供专业的解决方案。博洋股份一直致力于为国内外公司提供化工产品的服务,该服务包含了国内原材料资源开发、品质保证、仓储和物流。

    三氯化铁蚀刻液在印制电路、电子和金属精饰等工业中被采用,一般用来蚀刻铜、铜合金、不锈钢、铁及锌、铝等。虽然近些年来越来越要求再生容易,更加环保的蚀刻液,但由于三氯化铁蚀刻液它的工艺稳定,操作方便,价格便宜,因此还仍然被广大蚀刻加工企事业单位采用。三氯化铁蚀刻液适用于网印抗蚀印料、液体感光胶、干膜、镀金抗蚀层等抗蚀层的印制板的蚀刻。(但不适用于镍、锡、锡-铅合金等抗蚀层)1.蚀刻时的主要化学反应三氯化铁蚀刻液对铜箔的蚀刻是一个氧化-还原过程。在铜表面Fe3+使铜氧化成氯化亚铜。同时Fe3+被还原成Fe2+。FeCl3+Cu→FeCl2+CuClCuCl具有还原性,可以和FeCl3进一步发生反应生成氯化铜。FeCl3+CuCl→FeCl2+CuCl2Cu2+具有氧化性,与铜发生氧化反应:CuCl2+Cu→2CuCl所以,FeCl3蚀刻液对Cu的蚀刻时靠Fe3+和Cu2+共同完成的。其中Fe3+的蚀刻速率快,蚀刻质量好;而Cu2+的蚀刻速率慢,蚀刻质量差。新配制的蚀刻液中只有Fe3+,所以蚀刻速率较快。但是随着蚀刻反应的进行,Fe3+不断消耗,而Cu2+不断增加。当Fe3+消耗掉35%时,Cu2+已增加到相当大的浓度,这时Fe3+和Cu2+对Cu的蚀刻量几乎相等;当Fe3+消耗掉50%时。苏州博洋专业生产BOE蚀刻液欢迎询价。

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    封油所谓封油就是将产品在喷油过程中产品边缘的位置、喷不到油的地方进行人工补油,补油过程中产品的金属部位不可有外露现象,否则经过蚀刻后将会产生不良品,补油完成后再对产品进行烘干,烘干完成后对产品进行检查,检查OK后才可以放入下一道工序:蚀刻。5、蚀刻、清洗蚀刻是整个生产流程的关键工序,主要是将产品通过化学溶液的化学作用将产品经过爆光显影后外露的不锈钢部位进行腐蚀,从而形成我们想要的图案,蚀刻工作完成后对产品进行清洗,将多余的油漆清洗掉,然后经过慢拉机等的清洗设备完成产品的加工过程。6、出货检验经过蚀刻清洗工序完成后的产品即是我们想要的产品,但还要进行FQC检验,将生产过程中的不良品剔除出来后才可以交成品仓库安排出货。 苏州博洋化学股份专业生产BOE蚀刻液。湖北如何发展BOE蚀刻液销售电话

BOE蚀刻液的溶液配比。江苏BOE蚀刻液批量定制

BOE就是buffer oxide etch,缓冲氧化物刻蚀液。由氢氟酸(49%)与水或氟化铵与水混合而成, B.O.E 缓冲蚀刻液 BOE是HF与NH4F依不同比例混合而成。6:1 BOE蚀刻即表示49%HF水溶液:40%NH4F水溶液=1:6(体积比)的成分混合而成。刻蚀速度约10nm每秒。HF为主要的蚀刻液,NH4F则作为缓冲剂使用。利用NH4F固定〔H+〕的浓度,使之保持一定的蚀刻率。HF会浸蚀玻璃及任何含硅石的物质,对皮肤有强烈的腐蚀性,如果不小心被溅到,应用大量水冲洗。江苏BOE蚀刻液批量定制

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