湖南应用BOE蚀刻液推荐货源

时间:2024年01月23日 来源:

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    LaLey21/1992,de16dejulio,deIndustria,señala,enelapartado5delartículo12,que«losReglamentosdeSeguridadIndustrialdeámbitoestatalseaprobaránporelGobiernodelaNación,sinperjuiciodequelasComunidadesAutónomas,concompetencialegislativasobreindustria,puedanintroducirrequisitosadicionalessobrelasmismasmateriascuandosetratedeinstalacionesradicadasensuterritorio».Deacuerdoconello,sehaelaboradolaInstrucciónTécnicaComplementaria(ITC)MI-IP04,referentealasinstalacionesfijasparadistribuciónalpormenordecarburantesycombustiblespetrolíferoseninstalacionesdeventaalpúblico,yenlaquesehantenidoencuentalassolucionestécnicasdisponiblesenelactualniveldeconocimientosylaexperienciapráónhasidosometidaalprocedimientodeinformaciónenmateriadenormasyreglamentacionestécnicasprevistoenelRealDecreto1168/1995,de7dejulio,porelqueseincorporaalderechointernolaDirectiva94/10/CEEdelParlamentoEuropeoydelConsejo,de23demarzo,quemodificalaDirectiva83/189/CEE,ía。福建介绍BOE蚀刻液报价如何挑选一款适合自己公司的BOE蚀刻液?

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缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)是一种用于微细加工的液体腐蚀剂。它的主要用途是蚀刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)的薄膜。它是氟化铵(NH4F)和氢氟酸(HF)等缓冲液的混合物。浓缩的HF蚀刻二氧化硅的速度太快,不能很好地进行工艺控制,同时也会剥落用于光刻图案化的光刻胶。BOE6:1is6partsbyvolume40%ammoniumfluorideand1partbyvolume49%HF.应用缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)6:1可用于栅极光刻(gatephotolithography)的AlGaN/GaN基高电子迁移率晶体管的氧化物去除。它可用于缓冲氧化物蚀刻剂法,制造微型生物芯片。湖南应用BOE蚀刻液推荐货源

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