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    在本发明的一个实施例中，抛光液110的主要成分包括：碳化硅颗粒，颗粒直径为50nm～200nm，体积比为3％～5％；次氯酸盐，体积比为30％～40％；氢溴酸，体积比为5％～7％，di水，体积比50～60％。本发明的一个实施例中，如图3所示，磁转子12包括截面为半圆形的柱状磁性结构120和位于柱状磁性结构120的底部平面的研磨层121，以通过研磨层121对待加工部件20的待加工表面进行机械研磨。当然，本发明并不仅限于此，在其他实施例中，可以根据实际需求选择合适的磁转子形状。可选地，研磨层121为金属氧化物层，进一步可选地，金属氧化物层包括三氧化二铝层。可选地，研磨层121的厚度为10μm。本发明实施例中，如图4所示，磁转子12沿箭头所示方向旋转，如沿逆时针或顺时针方向旋转，并且，磁转子12的长度近似等于待加工部件20如inp基晶圆的直径，以对整个待加工表面进行研磨。本发明实施例中，抛光减薄装置还包括控制部件。控制部件与磁转子12和喷头11相连，用于控制喷头11和磁转子12交替工作，以对待加工表面交替进行抛光和减薄。其中，控制部件通过脉冲方式控制喷头11和磁转子12交替工作。可选地，控制部件控制磁转子12的转速为80rpm～200rpm。

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    若干所述侧支撑件44固定设置在所述固定板423的端面上；所述固定板423两端均设置有至少两个固定卡块427，所述固定卡块427一般设置为矩形横截面结构，便于所述固定板423端面的朝向定位；对应的，所述调节槽内设置有固定槽426，当所述固定板423两端各自的两所述固定卡块427分别设置于对应的所述固定槽426内时，设置有所述侧支撑件44的端面对应所述竖直平板421上的所述侧支撑件44，且设置所述侧支撑件44的所述竖直平板421和所述固定板423设置在所述底支撑件43的两侧，从而实现对所述盛放部内玻璃的支撑限位。其中，如图3所示，所述侧板422上所述调节槽的一种实施方式为，所述调节槽包括若干水平槽424和与所述水平槽424均竖直贯通连接的竖直槽425，所述固定槽426设置于所述水平槽424的下边缘，所述固定槽426对应所述固定卡块427设置为u型槽，从而便于固定所述固定卡块427的摆放位置。所述水平槽424和所述竖直槽425的尺寸均对应所述固定卡块427的尺寸设置，使所述固定卡块427可在所述水平槽424和所述竖直槽425内自由移动。在本实施方式中，两所述竖直平板421中一所述竖直平板421上设置有所述侧支撑件44，同一所述水平槽424多只设置一个所述固定卡块427。嘉兴性价比高的减薄用清洗剂溶剂