苏州电镀DLC技术

采用直流磁控溅射法在硅基底上交替沉积类金刚石碳(DLC)和氮化碳(CNx)薄膜,制备了不同DLC层厚度的CNx/DLC纳米多层膜.使用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、X射线光电子谱、Raman光谱等测试手段表征了薄膜的微观组织形貌、化学成分和原子价键结构等.采用原位纳米压入技术、涂层附着力划痕仪、球盘式摩擦磨损试验机对薄膜的力学和摩擦学性能进行了测试.结果表明:所制备的CNx/DLC多层膜均为微晶或非晶结构,组织致密.随着DLC层厚度的减小,多层膜内sp3杂化键的含量先升高后下降,压应力由135MPa增至538MPa,结合力先上升后降低,而磨损率则呈相反变化趋势.多层膜在大气和真空中的摩擦因数约为nm的多层膜的性能比较好,硬度可达GPa,比较低磨损率为×10-18m3/(N·m）。上海英屹涂层技术有限公司引进美国PE-CVD设备技术制备的类金刚石DLC膜层沉积速率快膜厚可达60um膜层硬度高膜层摩擦系数低小于结合力好耐腐蚀性能好优异的耐磨性膜层具有自润滑性的优点。可以解决PVD涂层镀不到的工件内孔的问题。公司涂层已经应用于航空机械模具电子医疗汽车发动机部件等领域。金刚石薄膜(DLC)的制备方法及应用。苏州电镀DLC技术

随着发动机技术的发展，特别是中重型柴油机，爆发压力越来越大，以及活塞材料替换为钢质材料，传统工艺的活塞销和连杆极易咬合。另外随着发动机噪音控制标准以及提升功耗的需求，对活塞销与活塞的配合间隙越来越小，传统工艺的活塞销对新的要求难以实现。DLC涂层活塞销，表面的DLC涂层是60%的类金刚石+30~40%C，能有效解决咬合问题，同时C有自润滑性，在润滑不良的状态下仍能有效工作，对以上存在的问题能较好的解决。DLC活塞销突出特点：1、提高载荷承载能力，抗咬合，特别是重型大功率柴油机；2、提高硬度，减少摩损，延长活塞销使用寿命，硬度可以达到HV3000；3、减少摩擦功损失，摩擦系数降低45%；4、降低噪音与排放；5、良好的干摩擦润滑性能；6、与润滑油的兼容性，良好的可湿性。湖州冷锻模DLC不锈钢表面沉积DLC膜的结构和性能。

DLC薄膜本身没有颜色，不具备色素显色（如花朵的颜色）的条件，其显色都来源于结构的不同，属于典型的结构显色（如彩虹的颜色）。其中，氢元素和sp2杂化碳的含量直接影响DLC薄膜颜色的鲜艳程度，薄膜显色可以归结于等距层状结构的薄膜干涉；而随着氢含量的降低和sp2杂化碳一定程度的增加，使得薄膜光吸收增加，DLC颜色变得暗淡，薄膜干涉不能完全解释，需引入非晶光子晶体显色机制。当sp3含量明显增加时，DLC薄膜接近于透明的金刚石薄膜时，非晶光子晶体显色机制占主导作用。据此，研究人员成功发展出利用DLC薄膜颜色快速分析DLC薄膜种类和结构的新方法。该方法不需要传统DLC分类手段的苛刻实验条件，通过简单的颜色规律实现DLC薄膜的快速初步分类，将推动其在多个重要应用领域的快速发展。

类金刚石薄膜(DLC)是1种非晶薄膜，可分为无氢类金刚石碳膜(a-C)和氢化类金刚石碳膜(a-C:H)(图2)两类。无氢类金刚石碳膜有a-C膜(主要由sp3和sp2键碳原子相互混杂的三维网络构成)，以及四面体非晶碳(tetrahedralcarbon，简称ta-C)(主要由超过80%的sp3键碳原子为骨架构成);氢化类金刚石碳膜(a-C:H)又可分为类聚合物非晶态碳(polymer-likecarbon，简称PLC)、类金刚石碳、类石墨碳3种，其三维网络结构中同时还结合一定数量的氢.类聚合物非晶态碳是含氢金刚石薄膜的一种它是非晶体又有类似于聚合物那种通过相同简单的结构单元通过共价键重复连接而成的化合物。这种类金刚石薄膜因为sp2键占据了主要数量，所以比较软，又不具备石墨的特性，使得它的用途受到了限制，在摩擦学的应用上还处在起步阶段。DLC类金刚石镀膜技术。

研究结果表明，采用射频等离子体增强化学气相沉积方法，可以在不锈钢表面沉积一定厚度的DLC碳膜，但是由于薄膜与基材之间存在较大的内应力，薄膜牢度较小，易剥落，且不耐磨。用旋转磁控电弧离子镀技术，在不锈钢金属表面先制备了Ti/TiC、Ti/TiN等中间过渡层，然后再用射频等离子体化学气相沉积(rfPEVCD)方法在过渡层上制备了DLC薄膜，发现所制备的DLC碳膜的附着牢度、摩擦性能、硬度均有很大提高。上海英屹涂层技术有限公司引进美国PE-CVD设备技术制备的类金刚石DLC膜层沉积速率快膜厚可达60um膜层硬度高膜层摩擦系数低小于结合力好耐腐蚀性能好优异的耐磨性膜层具有自润滑性的优点。可以解决PVD涂层镀不到的工件内孔的问题。公司涂层已经应用于航空机械模具电子医疗汽车发动机部件等领域。DLC碳膜的自润滑机制和磨损机理进行了探索。宝山金属表面DLC涂层厂

DLC(类金刚石镀膜(Diamond-like carbon)) 。苏州电镀DLC技术

DLC薄膜制备技术的研究开始于七十年代。1971年Aisenberg和Chabot成功地利用碳离子束沉积出DLC薄膜以来，离子束沉积法(Ionbeamdeposition)是开始用于制备DLC膜。其后研究者发现了一系列生成DLC薄膜的办法。Maissel等在《薄膜工艺手册》一书中指出，大多数能够在气相中沉积的薄膜材料也能在液相中通过电化学方法合成，反之亦然。给DLC薄膜的制备带来了新的思路，现在除了常见的化学气相沉积(CVD)和物相沉积(PVD)，也可以通过液相的电化学沉积来制备DLC膜。因此通常在两个电极之间施加很高的电压，即利用强电场使溶液中的C-H、C-O和O-H等键发生断裂生成碳碎片，从而使含碳的成分以极性基团或离子的形式到达基片，并且在基片所处的高电位下得以活化，进而生成含一定sp3成分的类金刚石薄膜。苏州电镀DLC技术