无锡纳米类金刚石

时间:2021年09月06日 来源:

利用ECR-PECVD技术在等离子体活化后的UHMWPE表面成功制备出一种含氢DLC薄膜。UHMWPE经等离子体活化提高了其表面能和表面粗糙度,增强了与DLC间的膜基结合强度。DLC薄膜的沉积,进一步提高了UHMWPE的表面硬度、表面抗擦伤能力和耐磨损能力。⑹UHMWPE表面金属过渡层的引入,提高了DLC薄膜的沉积速率和薄膜中sp3键的含量,进一步提高了UHMWPE的耐磨损性能⑺本文采用的“低温等离子体活化/强化预处理+DLC薄膜沉积”的双重表面改性技术对提高UHMWPE的耐磨性来说将起到双重保障作用。将该技术应用于UHMWPE人工关节臼的表面改性具有潜在的重要应用价值。上海英屹涂层技术有限公司引进美国PE-CVD设备技术制备的类金刚石DLC膜层沉积速率快膜厚可达60um膜层硬度高膜层摩擦系数低小于结合力好耐腐蚀性能好优异的耐磨性膜层具有自润滑性的优点。可以解决PVD涂层镀不到的工件内孔的问题。公司涂层已经应用于航空机械模具电子医疗汽车发动机部件等领域。类金刚石薄膜的种类及其应用。无锡纳米类金刚石

类金刚石的光学性能及应用。DLC薄膜具有良好的光学透明度,宽的光学带隙,在可见光区通常吸收率高,不透明,但是在红外区和微波频段则具有很高的透过率和较低的吸收率。由于DLC薄膜具有光谱宽透过率高、硬度高、摩擦系数小、化学稳定性好等优点,可以作为多种光学材料如硅、锗、玻璃、硫化锌等的增透/保护膜,起到抗磨损、耐腐蚀、抗潮解和抗氧化的作用。国外已相继将其应用在太阳能硅电池、高功率二氧化碳激光器窗口、潜望镜红外窗口、陆瞄准具红外窗口、飞机前视红外窗口、导弹头罩窗口和宇航探测器等方面。类金刚石在机械性能与应用。DLC薄膜具有很高的硬度和弹性模量,不同的沉积方法制备的DLC薄膜硬度差异很大,尤其是用激光溅射或磁过滤阴极电弧法制备出的DLC薄膜,其硬度高达70-110GPa,与金刚石相当。因制备方法或者沉积的工艺参数以及成分不同,造成sp3/sp2比例以及氢含量不同,也会影响薄膜的力学性能。切刀类金刚石厂家类金刚石薄膜的结构特点是什么?

DLC薄膜处于热力学非平衡状态,其原子排布呈现出近程有序、远程无序的特点。近程有序主要表现为C-C原子之间的sp3和sp2杂化键的结构。第一种模型是Beeman等人提出的,他们构造了三种具有不同sp3和sp2杂化碳原子含量的非晶碳薄膜模型。此模型具备两个典型特征:其一,除了sp2杂化结构模型外,所有模型对应于相对各向同性的无序混乱网络结构,而且没有内部悬键;其二,所有模型都做了弛豫处理,目的是使由偏离结晶态的键长、键角所引起的应变能降到比较低。第二种模型是完全无规网络模型,由Phillips等人提出并完善。该模型的基本观点是,在非晶态随机共价网络当中,当原子的平均数与原子的机械自由度相等时,该结构被完全。增加配位数,则可以生成更多的共价键而降低体系能力,可以稳定固态网络结构,但键的拉伸和键角的畸形会造成更多的应变能。

采用优化的沉积类金刚石(DLC)涂层工艺及过渡层技术,在硬质合金上制备出性能优良的DLC膜.实验室切削试验与工业生产现场切削表明:在切削铝青铜和共晶铝硅合金时,DLC膜涂层刀具使用寿命明显高于末涂层刀具.上海英屹涂层技术有限公司引进美国PE-CVD设备技术制备的类金刚石DLC膜层沉积速率快膜厚可达60um膜层硬度高膜层摩擦系数低小于0.1结合力好耐腐蚀性能好优异的耐磨性膜层具有自润滑性的优点。可以解决PVD涂层镀不到的工件内孔的问题。公司涂层已经应用于航空机械模具电子医疗汽车发动机部件等领域。类金刚石薄膜是混合物吗?

由于类金刚石涂层的机械性能由sp3键决定,而电学和光学性能由sp2键决定,高温条件可以促使sp3键转化为sp2键,从而使薄膜的机械性能降低,电学和光学性能增强,不利于薄膜的稳定。类金刚石涂层可以分为含氢及无氢两种类型,有研究表明,在制备含氢类金刚石涂层薄膜过程中,若退火温度低于400°C时,膜结构可以保持稳定,当温度超过400°C时就会导致sp3键转化为sp2键,使得晶体结构向石墨结构转化,所以,高温可以造成薄膜结构不稳定,耐热性差。在含氢类金刚石涂层制备中加入Si等杂质元素,可以改变sp2键及sp3键的成键方式,增加类金刚石涂层的热稳定性。同样,无氢类金刚石涂层薄膜的热稳定性大小也与sp3含量有关,随着sp3含量降低热稳定性变小。另外,薄膜厚度增加可以使sp3键含量也增加,从而提高热稳定性。还有研究发现,采用液相法制成的类金刚石涂层热稳定性极高,有效地解决了这一问题。DLC类金刚石镀膜技术。无锡纳米类金刚石厂

类石墨膜和类金刚石膜的区别?无锡纳米类金刚石

类金刚石碳膜因同时具有高硬度和低摩擦系数而引起关注,然而,它与工业中常用的铁基材料存在"触媒效应",即,镀的刀具在加工黑色金属的过程中高硬度砂键会转化成软的护键,使耐磨性急剧下降,因此限制了它的应用范围年限,柳襄怀等采用离子束辅助沉积功技术制备出了用于满足电磁功能要求的"石墨化"的膜年,提出存在高硬度"碳结构",其后,英国及公司采用全封闭非平衡磁控溅射制备出了高硬度碳膜一镀层阅研究表明一以砂结构为主,在与钢铁材料摩擦时未出现"触媒效应"且硬度适中、摩擦系数小、比磨损率较低一个数量级,具有极其优越的摩擦学性能碳膜的结构和性能很大程度上与其制备工艺有关方法便于控制辅助轰击参数以改变镀层的结构,磁控溅射沉积速率较高,可制备厚镀层,此类碳膜既非又非普通石墨,暂称之为类石墨碳膜。无锡纳米类金刚石

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