舟山钕铁硼生产厂家

时间:2024年01月09日 来源:

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    自动传送设备将磁控溅射处理后的钕铁硼磁体送入冷却室中,磁控溅射室和冷却室之间的封闭门封闭,在冷却室中采用冷却设备将钕铁硼磁体冷却至80℃以下;②-7将冷却室和出料室之间的封闭门打开,自动传送设备将冷却后的钕铁硼磁体送入出料室中,将冷却室和出料室之间的封闭门封闭,从出料室内取出网板;②-8将网板上的钕铁硼磁体翻面后间隔摆放至网板上,每相邻两块钕铁硼磁体之间的间隔距离大于钕铁硼磁体的厚度;②-9按照步骤②-3~②-7的方法对钕铁硼磁体进行再次处理,得到连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体。本实施例中,对连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体进行电镀化学镍处理的具体过程为:③-1将连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体装入滚筒内,采用硫酸溶液进行活化处理,硫酸溶液由硫酸和水均匀混合形成,硫酸溶液中硫酸的质量百分比为2%,活化处理过程中,滚筒转速为2r/min;③-2对活化处理后的钕铁硼磁体依次进行两次水洗,两次水洗均在滚筒内进行,滚筒转速为2r/min;③-3将两次水洗后的钕铁硼磁体采用ph值为,电镀溶液温度为88℃,电镀溶液由硫酸镍、次磷酸钠、醋酸钠、柠檬酸钠和水均匀混合形成,该电镀溶液中,硫酸镍的浓度为25g/l。标准钕铁硼市场价钕铁硼磁体的磁性能优异,能够满足电动汽车的需求。

    我国钕铁硼的产销量开始迅速提升,成为全球钕铁硼生产的主要地区之一。此外,世界钕铁硼生产企业逐渐开始向中国布局。目前美国国内已无大型钕铁硼生产企业,其产能全部转移至中国。欧洲两家主要的烧结钕铁硼生产企业芬兰Neorem公司和德国VAC公司在2007年完成合并,并开始在中国布局产能。同时,日本作为曾经世界的钕铁硼生产国,产能也在向中国转移。目前我国钕铁硼产量已经占到世界钕铁硼永磁材料产量的90%以上,其中高性能钕铁硼永磁材料占世界的比重不断攀升,目前已接近60%。随着国外对钕铁硼生产监管的加强和成本的提升,未来我国钕铁硼产能占比有望进一步提升,可以说中国钕铁硼产量决定了全球供给趋势。产能扩张迅速低端钕铁硼产能过剩近几年我国钕铁硼产能扩张迅速,毛坯产能从2000年的万吨扩大至2014年超过40万吨,同时产能利用率很低,2013及2014年产能利用率不到30%。目前我国钕铁硼过剩产能集中于低端产品,低端钕铁硼产量占总产量比重接近80%。同时由于低端钕铁硼生产进入门槛较低,造成行业产能较为分散,产能不足3000吨的中小型钕铁硼生产企业成为供应主力。由于近几年低端钕铁硼价格持续低迷,众多小企业纷纷关停。产能集中度有所提高。

    宁波杰旺磁材有限公司凭借磁性材料生产和磁应用行业的地位与多年研发制造经验,公司一直致力于各种磁性夹具、起重设备及电控永磁吸盘等磁性产品的研发、设计和制造,坚持不懈地向客户提供日臻完美的换膜解决方案,目前换膜系统产品已成功运用到美的、长虹、TCL、海天等产品的部件加工上。磁电目前广泛应用于市场的产品有:永磁起重器、电控永磁吸盘、永磁吸盘、充磁机、退磁机、磁性器件、磁力架、磁性材料等。依托在磁应用领域的丰富经验,运用CAD/CAM设计的产品更贴近用户的实际工况,现代化的制造系统、高性能的磁钢、的检测系统和完善的售前售后服务体系,是我们为用户提供的技术支持和周到的服务、限度地满足用户需求这一使命的坚实保障。无论是在国内还是海外公司的产品都已获得普遍的良好生誉。钕铁硼可以用于制造各种医疗设备,如MRI、CT等。

    对连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体进行电镀化学镍处理,通过化学镍沉积,在溅射镍层表面形成致密的电镀镍层,保证钕铁硼磁体具有较高的防腐性和耐磨性,磁控溅射处理过程与电镀化学镍处理过程中均无尖点效应,溅射镍层和电镀镍层形成的复合镀层均匀性好,产品尺寸易,而且采用连续磁控溅射镀镍,缩短电镀制程,废水将减少70%以上,经测试,采用本发明的方法处理的钕铁硼磁体相对于现有方法处理的钕铁硼磁体,其耐腐蚀性试验经受时间为120-160h,提高了,使用寿命长,运行可靠性高,应用领域广。具体实施方式以下结合实施例对本发明作进一步详细描述。实施例一:一种钕铁硼磁体复合镀镍方法,包括以下步骤:①对钕铁硼磁体进行预处理;②对预处理后的钕铁硼磁体进行连续磁控溅射镀镍处理;③对连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体进行电镀化学镍处理。本实施例中,对预处理后的钕铁硼磁体进行连续磁控溅射镀镍处理的具体过程为:②-1搭建对预处理后的钕铁硼磁体进行连续磁控溅射镀镍处理过程中所需的处理室,处理室包括从前往后依次设置的五个工作室,每相邻两个工作室之间设置封闭门,当相邻两个工作室之间设置的封闭门打开时,该相邻两个工作室连通。钕铁硼可以用于制造各种磁性防盗设备,如磁性门锁、磁性标签等。湖州钕铁硼加工

钕铁硼可以制成各种形状和尺寸的磁体,以适应不同的应用需求。舟山钕铁硼生产厂家

    预烘温度为120℃,预烘时间为20分钟;②-5将预热室和磁控溅射室之间的封闭门打开,自动传送设备将预热后的钕铁硼磁体送入磁控溅射室中,然后将磁控溅射室和预热室之间的封闭门再次封闭,在磁控溅射室中采用磁控溅射设备对钕铁硼磁体进行磁控溅射处理,其中,磁控溅射处理靶材采用镍,靶功率为400w,气压为,在钕铁硼磁体表面形成的溅射膜层的厚度为3-8μm,处理时间为20分钟;②-6将磁控溅射室和冷却室之间的封闭门打开,自动传送设备将磁控溅射处理后的钕铁硼磁体送入冷却室中,磁控溅射室和冷却室之间的封闭门封闭,在冷却室中采用冷却设备将钕铁硼磁体冷却至80℃以下;②-7将冷却室和出料室之间的封闭门打开,自动传送设备将冷却后的钕铁硼磁体送入出料室中,将冷却室和出料室之间的封闭门封闭,从出料室内取出网板;②-8将网板上的钕铁硼磁体翻面后间隔摆放至网板上,每相邻两块钕铁硼磁体之间的间隔距离大于钕铁硼磁体的厚度;②-9按照步骤②-3~②-7的方法对钕铁硼磁体进行再次处理,得到连续磁控溅射镀镍处理后的钕铁硼磁体。本实施例中。舟山钕铁硼生产厂家

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