ZrO2靶材绑定

靶材抛光装置100对所述靶材600进行抛光时，将所述靶材抛光装置100放置于所述靶材600上，使所述抛光片第二部分320表面与所述靶材600的侧棱601表面相贴合，并使所述抛光片部分310表面与所述靶材溅射面610相贴合，且所述抛光片第三部分330表面与所述靶材600的侧壁表面630相贴合。操作人员利用所述把手推动所述靶材抛光装置100，所述靶材抛光装置100相对所述靶材600移动，移动方向平行与被抛光的所述侧棱601延伸方向。所述抛光片300表面的磨砂颗粒与靶材600表面相摩擦，以获得光亮、平整的靶材600表面。

此外，还可以通过所述靶材抛光装置100同时对所述靶材600相交接的两个侧壁表面630进行抛光。具体的，所述抛光片***部分310与所述靶材600的一个侧壁表面630相贴合，所述抛光片第三部分330表面与所述靶材600的另一个侧壁表面630相贴合，所述抛光片第二部分320表面与位于两个侧壁表面630间的侧棱601表面相贴合。操作人员相对所述靶材600移动所述靶材抛光装置100，移动方向平行与被抛光的所述侧棱601延伸方向，从而可同时对所述靶材600的两个侧壁表面630进行抛光，且还同时对位于两个侧壁表面630间的侧棱601表面进行抛光，有助于提高抛光作业效率。 导电胶：采用的导电胶要耐高温，厚度在0.02-0.05um。ZrO2靶材绑定

纯度：纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”、 8”发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

杂质含量：靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。  CuS靶材定制在直流脉冲、中频溅射过程中，离子撞击的能量不足以破坏氧化皮。

 陶瓷靶材：

ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、溅射靶材氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、溅射靶材等。

磁控溅射镀膜中出现膜层不良的表现有哪些，如何改善？ 1.脱膜主要表现：点状/片状膜层脱落 原因分析：杂质附着，清洗残留，真空室脏，脏污、油斑、灰点、口水点， 膜层局部附着不良等。 改善：加强清洗，加强烘烤，环境管控（清洁干燥），对于多层膜系，底层须与基材匹配（吸附力、硬度、热膨胀）。 2.裂纹/暴膜主要表现： 网状裂痕/龟裂/起泡脱膜，出炉外观OK，放置一段时间后爆裂/起泡脱膜。 原因分析：镀膜过程基材加热不充分，成膜后及出炉后降温过快，膜层应力累积， 膜层与基材不匹配，多层膜之间参数不匹配。 改善： 基材充分预热加热；增加离子辅助，减小应力；镀膜缓慢降温；底层须与基材匹配；多层膜之间参数不突变。 3，色差主要表现：同炉产品颜色不一致 原因分析及改善：靶材分布；布气；磁场；遮挡。对于所有的金属来说，纯度是靶材的主要性能指标之一，靶材的纯度对后期产品薄膜的性能影响很大。

所述把手510包括杆状部511和第二杆状部512，所述杆状部511的一端连接所述顶板210，另一端连接所述第二杆状部512。所述杆状部511延伸方向与所述顶板210表面相垂直，所述第二杆状部512延伸方向与所述顶板210表面相平行。所述把手510的结构有利于操作人员牢固的抓握所述把手510，防止从所述把手510上滑脱。

在其他实施例中，所述固定板200内侧面弯折处呈弧状，所述防护层400弯折处呈弧状，位于所述固定板200弯折处的所述抛光片300的厚度均匀。

此外，与前一实施例不同的是，所述抛光片部分310、抛光片第二部分320及抛光片第三部分330为一体成型。且所述抛光片部分310、抛光片第二部分320及抛光片第三部分330厚度相等。 反应溅射气体的溅射效率本来就比惰性气体的溅射效率低，所以反应气体比例增加后，综合溅射速率降低。南通氧化铪靶材型号

溅射的时候会先溅射凸起，溅射时间长了，靶材自己就平了。所以物理不均匀的状态不需要抛光。ZrO2靶材绑定

锌锡合金，锌铝合金，锡镉合金，铜铟合金，铜铟镓合金，铜镓合金，以及锡，钼，钛等旋转靶材 高纯铝靶材Al 高纯铜靶材Cu 高纯铁靶材Fe 高纯钛靶材Ti 高纯镍靶材Ni 高纯镁靶材Mg高纯铬靶材Cr 高纯锌靶材Zn 高纯银靶材Ag 高纯钴靶材Co 高纯铌靶材Nb 高纯锡靶材Sn 高纯铟靶材In 高纯锆靶材Zr 高纯钽靶材Ta 高纯锗靶材Ge 高纯硅靶材Si 高纯钨靶材W 高纯铪靶材Hf 高纯钇靶材Y 高纯钆靶材Gd 高纯钐靶材Sm 高纯镝靶材Dy 高纯铈靶材Ce 高纯镧靶材La 高纯金靶材Au 高纯不锈钢靶材高纯石墨靶材C 高纯硒靶材Se高纯钼靶材Mo 高纯合金溅射靶材 二元合金靶 镍铬靶Ni-Cr 镍铁靶Ni-Fe 镍钴靶Ni-Co 镍锆靶Ni-Zr 镍铝靶Ni-Al镍铜靶Ni-Cu 镍钒靶Ni-V铜铟靶Cu-In 铜镓靶Cu-Ga 铜硒靶Cu-Se 钛铝靶Ti-Al 铝硅靶Al-Si 铝铜靶Al-Cu 铝钛靶Al-Ti 铝镁靶Al-Mg 银铜靶Ag-Cu 铁锰靶Fe-Mn 铟锡靶In-Sn 钴铁靶Co-Fe钨钛靶W-Ti 锌铝靶Zn-Al 铝钪靶Al-Sc 铜锡靶Cu-Sn 锆铝靶Zr-Al 锆铁靶Zr-Fe 锆硅靶Zr-Si 钒铝靶V-Al硼铁靶B-Fe 铝硅靶Al-Si 硼铁靶 B-Fe 多元合金靶 钴铁硼靶Co-Fe-B 铜铟镓靶Cu-In-Ga铜铟镓硒靶Cu-In-Ga-Se等。 旋转靶材用途 编辑 太阳能电池，建筑玻璃，汽车玻璃，半导体，平板电视等。ZrO2靶材绑定

江阴典誉新材料科技有限公司地处江苏省江阴市，是一家专业生产溅射靶材和蒸发材料的公司，溅射靶材充分借鉴国外的先进技术，并通过与国内外**研发机构合作，整合各行业资源优势，生产出多系列***溅射靶材产品。 公司目前主要生产金属，合金，陶瓷三大类靶材产品。经过几年的发展和技术积累，已经拥有：真空热压，冷压烧结，真空熔炼，热等静压，等离子喷涂等技术。另外也可根据客户要求研发新型靶材并提供靶材金属化、绑定和背板服务。 江阴典誉新材料科技有限公司已为以下行业提供***的靶材：平面显示、装饰与工具、太阳能光伏和光热、电子和半导体、建筑与汽车玻璃大面积镀膜等工业领域。同时也为国内外各大院校和研究所提供了很多常规和新型的试验用靶材。 江阴典誉目前拥有真空热压炉两台，冷压烧结炉一台，真空熔炼设备两台，等静压设备一台，等离子喷涂两套，绑定平台两套，各类机加工设备七台，检验设备若干，确保出厂的每件产品都能达到甚至超过客户的预期。 江阴典誉秉承：“一切以客户的需求为导向，客户的所有需求一次做好。”的发展理念。