河北硅抛光液介绍

   陶瓷手机壳用**纳米氧化铝抛光液  

本公司的纳米抛光液可以对手机壳等材料进行抛光处理。白色液体氧化铝抛光液含α氧化铝30%，氧化铝平均粒度为80-150nm，pH显中性，不含对人体有害成分。本α氧化铝晶型化优良，材料去除效率高，可达到镜面的亮度。产品极易清理，且对设备没有任何腐蚀。本产品质量稳定，不会沉淀。它具有的特点包括纳米氧化铝粒径均匀、软硬度适中、粒度分布集中，没有特别大的颗粒，不会对抛光物体产生划痕，材料会光亮如镜，抛光亮度稳定悬浮性好、不易沉淀、使用方便，可以长时间使用，从而保证使用寿命，它的分散性好、乳液均一，**提高了抛光效率和精度。同时，具有无腐蚀、不易变质等性能。 本公司销售的纳米抛光液应用范围：单晶、红宝石、蓝宝石、白宝石、钇铝石榴石。河北硅抛光液介绍

氧化铝抛光液适用于金相样品的**终抛光，纳米级的悬浮液，如同牛奶般丝滑有质感，静止一定时间后，溶剂和氧化铝颗粒会自然分层，上层呈半透明水样，氧化铝颗粒沉积在下层，使用前需要摇匀。摇匀后的氧化铝抛光液就跟牛奶似的了。做铸铁、钢、不锈钢、铜、聚合物、矿物质、微电子、贵金属等金相样品制备的实验室一般都会常备氧化铝抛光液。

氧化铝抛光液作为**终抛光液，是为了去除样品表面肉眼不可见的表面变形层。尤其是使用高倍物镜、偏振光、微分干涉或EBSD 技术，来检测、评定样品时，去除这种微小变形是必需的。 佛山抛光液生产工艺本公司销售的氧化硅抛光液高纯度(Cu2+含量小于50 ppb)，有效减小对电子类产品的沾污。

    抛光液锗抛光液集成电路多次铜布线抛光液集成电路阻挡层抛光液应用，在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度极高，普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用"软磨硬"的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展，聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。2.半导体行业CMP技术还***的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展，对抛光技术提出了新的要求，传统的抛光技术(如:基于淀积技术的选择淀积、溅射等)虽然也可以提供"光滑"的表面，但却都是局部平面化技术，不能做到全局平面化，而化学机械抛光技术解决了这个问题，它是目前***的可以在整个硅圆晶片上***平坦化的工艺技术。

玻璃抛光液简介  

玻璃抛光液用于抛光蒙砂玻璃与喷砂玻璃,以加深玻璃的无手印效果，手感光滑，颗粒感可以随意由操作时间而调整，无手印效果明显，可以加深无手印的效果，适用于生产各种移门，抛光后的玻璃表面光滑但颗粒感强.抛光工艺简单易操作。它适用于各类超硬玻璃，例如，水晶工艺品玻璃，高铅玻璃，高硼玻璃，微晶玻璃，光学石英玻璃等等，这类玻璃的特点是化学稳定性好，硬度很高，用普通抛光液进行处理的时候费时费力，而且很容易造成缺点，而玻璃抛光液DF-808由于添加了有机促进剂，抛光时间很短，一般在5分钟内即可完成，抛光后的玻璃明亮清透，不留瑕疵。玻璃抛光液是东莞澳达化工专为手机表面而研发的其操作简便，可视污渍的多少只需将玻璃抛光液用超声清洗、自动浸泡或手洗即可彻底清洁手机表面的各种污渍且不伤手机。   玻璃抛光液具有抛光速度快、使用寿命长、良好的悬浮性、不沾附、能适合于各种材料的抛光,适合于抛光高精密玻璃,能有效解决材质划伤和抛光粉堆积造成的表面斑点现象。 纳米 抛光液能达到超精密的抛光效果，分散稳定性，长时间不沉淀，不团聚。

复合抛光液对硅衬底去除速率的影响

目前，IC产品用到的衬底材料大都是硅材料，绝大多数的的半导体IC器件以高纯质量硅基作为衬底。但是随着IC产品集成度进一步提高，对硅单晶衬底片表层质量与表面平整度要求越趋严格，即要求硅衬底抛光片或外延片表面高平整度、高光洁度、表面无损伤。化学机械抛光是***能实现如此高精度的方法。抛光液pH值，组分等性质对硅衬底抛光速率有着***的影响。复合抛光液是不同的两种以上的抛光液磨料组合而成的，性能良好的混合磨料之间可以形成优势互补，具有单一磨料不具备的新特点。充分发挥其特性，可以获得抗腐蚀性、耐久性和稳定性更好的抛光液。本文通过SiO2磨料和CeO2磨料的混合，确定出抛光速率较高的混合配比和磨料体积分数。 本公司销售的氧化硅抛光液纳米颗粒呈球形，单分散，大小均匀，粒径分布窄，可获得高质量的抛光精度。江苏硅抛光液厂家

氧化铝抛光液主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。河北硅抛光液介绍

氧化硅抛光液经过严格的粒径控制和专业的加工工艺。  该产品抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。

产品特点：  

1.分散性好、不结晶 。 

2.粒径分布***：5-100nm。  

3.高纯度(Cu2+含量小于50 ppb)，有效减小对电子类产品的沾污。  

4.经特殊工艺合成的化学机械抛光液，纳米颗粒呈球形，单分散，大小均匀，粒径分布窄，可获得高质量的抛光精度。  

5.适合与各种抛光垫、合成材料配合抛光使用。

使用方法：  

1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。  

2.稀释后，粗抛时调节PH至11左右，精抛时调节PH至9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。 

3.循环抛光可以用原液。

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