NK值膜厚仪实验室应用

F40 系列

包含的内容：集成光谱仪/光源装置FILMeasure 8 软件FILMeasure **软件 (用于远程数据分析)MA-Cmount 安装转接器 显微镜转接器光纤连接线BK7 参考材料TS-Focus-SiO2-4-10000 厚度标准 聚焦/厚度标准BG-Microscope (作为背景基准)

额外的好处：每台系统內建超过130种材料库, 随着不同应用更超过数百种应用工程师可立刻提供帮助（周一 - 周五）网上的 “手把手” 支持 (需要连接互联网)硬件升级计划

如果需要了解更多的信息，请访问我们官网或者联系我们。 F30-UV测厚范围：3nm-40µm；波长：190-1100nm。NK值膜厚仪实验室应用

F50 系列

包含的内容：集成光谱仪/光源装置光纤电缆4", 6" and 200mm 参考晶圆TS-SiO2-4-7200 厚度标准BK7 参考材料整平滤波器 (用于高反射基板)真空泵备用灯

型号 厚度范围*波长范围

F50：20nm-70µm 380-1050nm

F50-UV：5nm-40µm 190-1100nm

F50-NIR：100nm-250µm 950-1700nm

F50-EXR：20nm-250µm 380-1700nm

F50-UVX：5nm-250µm 190-1700nm

F50-XT：0.2µm-450µm 1440-1690nm

F50-s980：4µm-1mm 960-1000nm

F50-s1310：7µm-2mm 1280-1340nm

F50-s1550：10µm-3mm 1520-1580nm

额外的好处：每台系统內建超过130种材料库, 随着不同应用更超过数百种应用工程师可立刻提供帮助（周一 - 周五）网上的 “手把手” 支持 (需要连接互联网)硬件升级计划 Filmetrics F3-CS膜厚仪有哪些应用F3-sX系列使用近红外光来测量薄膜厚度，即使有许多肉眼看来不透光(例如半导体)。

电介质成千上万的电解质薄膜被用于光学，半导体，以及其它数十个行业, 而Filmetrics的仪器几乎可以测量所有的薄膜。 

测量范例氮化硅薄膜作为电介质，钝化层，或掩膜材料被广泛应用于半导体产业。这个案例中，我们用F20-UVX成功地测量了硅基底上氮化硅薄膜的厚度，折射率，和消光系数。有趣的事，氮化硅薄膜的光学性质与薄膜的分子当量紧密相关。使用Filmetrics专有的氮化硅扩散模型，F20-UVX可以很容易地测量氮化硅薄膜的厚度和光学性质，不管他们是富硅，贫硅，还是分子当量。

Total Thickness Variation (TTV) 应用

规格:

测量方式:

红外干涉(非接触式)

样本尺寸:

50、75、100、200、300 mm， 也可以订做客户需要的产品尺寸

测量厚度:

15 — 780 μm (单探头)

     3 mm (双探头总厚度测量)

扫瞄方式:

半自动及全自动型号,

 另2D/3D扫瞄(Mapping)可选

衬底厚度测量: TTV、平均值、*小值、*大值、公差...

可选粗糙度: 20 — 1000Å (RMS)

重复性:

0.1 μm (1 sigma)单探头*

  0.8 μm

(1 sigma)双探头*

分辨率:

 10 nm

请访问我们的中文官网了解更多关于本产品的信息。

技术介绍：

红外干涉测量技术, 非接触式测量。采用Michaelson干涉方法，红外波段的激光能更好的穿透被测物体，准确的得到测试结果。

产品简介：FSM 413EC 红外干涉测量设备

适用于所有可让红外线通过的材料：硅、蓝宝石、砷化镓、磷化铟、碳化硅、玻璃、石  英、聚合物…………

应用:

   衬底厚度(不受图案硅片、有胶带、凹凸或者粘合硅片影响)

   平整度   

沟槽深度

   过孔尺寸、深度、侧壁角度

   粗糙度

薄膜厚度

硅片厚度

   环氧树脂厚度

   衬底翘曲度

   晶圆凸点高度(bump height)

MEMS 薄膜测量

TSV 深度、侧壁角度...

F40测量范围；20nm-40µm;波长：400-850nm。NK值膜厚仪实验室应用

产品型号：FSM 413EC, FSM 413MOT，FSM 413SA DP FSM 413C2C, FSM 8108 VITE C2C。NK值膜厚仪实验室应用

    其可测量薄膜厚度在1nm到1mm之间，测量精度高达1埃，测量稳定性高达，测量时间只需一到二秒,并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）,液晶显示(Displays),硬涂层(Hardcoats),金属膜(Metal),眼镜涂层(Ophthalmic),聚对二甲笨(Parylene),电路板(PCBs&PWBs),多孔硅(PorousSilicon),光阻材料(ThickResist),半导体材料(Semiconductors),太阳光伏(Solarphotovoltaics),真空镀层(VacuumCoatings),圈筒检查(Webinspectionapplications)等。通过Filmetrics膜厚测量仪*新反射式光谱测量技术,*多4层透明薄膜厚度、n、k值及粗糙度能在数秒钟测得。其应用***，例如:半导体工业:光阻、氧化物、氮化物。LCD工业:间距(cellgaps)，ito电极、polyimide保护膜。光电镀膜应用:硬化镀膜、抗反射镀膜、过滤片。极易操作、快速、准确、机身轻巧及价格便宜为其主要优点，Filmetrics提供以下型号以供选择:F20:这简单入门型号有三种不同波长选择(由220nm紫外线区至1700nm近红外线区)为任意携带型，可以实现反射、膜厚、n、k值测量。F30:这型号可安装在任何真空镀膜机腔体外的窗口。可实时监控长晶速度、实时提供膜厚、n、k值。并可切定某一波长或固定测量时间间距。NK值膜厚仪实验室应用

岱美仪器技术服务（上海）有限公司位于金高路2216弄35号6幢306-308室。公司自成立以来，以质量为发展，让匠心弥散在每个细节，公司旗下半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪深受客户的喜爱。公司将不断增强企业重点竞争力，努力学习行业知识，遵守行业规范，植根于仪器仪表行业的发展。岱美中国秉承“客户为尊、服务为荣、创意为先、技术为实”的经营理念，全力打造公司的重点竞争力。