重庆原装进口光刻机
集成化光刻系统
HERCULES光刻量产轨道系统通过完全集成的生产系统和结合了掩模对准和曝光以及集成的预处理和后处理功能的高度自动化,完善了EVG光刻产品系列。HERCULES光刻轨道系统基于模块化平台,将EVG已建立的光学掩模对准技术与集成的清洁,光刻胶涂层,烘烤和光刻胶显影模块相结合。这使HERCULES平台变成了“一站式服务”,在这里将经过预处理的晶圆装载到工具中,然后返回完全结构化的经过处理的晶圆。目前可以预定的型号为:HERCULES。请访问官网获取更多的信息。
岱美是EVG光刻机在中国的代理商,提供本地化的质量服务。重庆原装进口光刻机
EVG也提供量产型掩模对准系统。对于在微米范围内的光刻图形,掩模对准器是**/具成本效益的技术,与其他解决方案相比,每层可节省30%以上的成本,这对用户来说是至关重要的。EVG的大批量制造系统旨在以**/佳的成本效率与**/高的技术标准相结合,并由卓/越的全球服务基础设施提供支持。**重要的是,大焦深曝光光学系统完美匹配大批量生产中的厚抗蚀剂,表面形貌和非平面基片的图形。在全球范围内,我们为许多客户提供了量产型的光刻机系统,得到了他们的无数好评。青海晶片光刻机除了光刻机之外,岱美还代理了EVG的键合机等设备。
EVG光刻机简介
EVG在1985年发明了世界上第/一个底部对准系统,可以在顶部和双面光刻,对准晶圆键合和纳米压印光刻技术方面开创并建立了行业标准。EVG通过不断开发掩模对准器来为这些领域做出贡献,以增强**重要的光刻技术。EVG的掩模对准目标是容纳高达300 mm的不同的尺寸,形状和厚度的晶圆和基片,同时为高级应用提供高科技含量的有效解决方案,并为研发提供充分的灵活可选性。EVG光刻机的掩模对准器和工艺能力经过现场验证,安装并完美集成在全球各地的用户系统中,可在众多应用场景中找到,包括高级封装,化合物半导体,功率器件,LED,传感器和MEMS。
EVG120特征2:
先进且经过现场验证的机器人具有双末端执行器功能,可确保连续的高产量;
工艺技术卓/越和开发服务:
多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)
智能过程控制和数据分析功能[Framework SW Platform]
用于过程和机器控制的集成分析功能
设备和过程性能跟/踪功能;
并行/排队任务处理功能;
智能处理功能;
发生和警报分析;
智能维护管理和跟/踪;
技术数据:
可用模块;
旋涂/ OmniSpray ® /开发;
烤/冷;
晶圆处理选项:
单/双EE /边缘处理/晶圆翻转;
弯曲/翘曲/薄晶圆处理。
EVG光刻机设备,可完全集成到HERCULES光刻轨道系统中,并辅以其用于从上到下侧对准验证的计量工具。
EVG620 NT或完全容纳的EVG620
NT Gen2掩模对准系统配备了集成的振动隔离功能,可在各种应用中实现出色的曝光效果,例如,对薄而厚的光刻胶进行曝光,对深腔进行构图并形成可比的形貌,以及对薄而易碎的材料(例如化合物半导体)进行加工。此外,半自动和全自动系统配置均支持EVG专有的SmartNIL技术。
EVG620 NT特征:
晶圆/基板尺寸从小到150 mm /
6''
系统设计支持光刻工艺的多功能性
易碎,薄或翘曲的多种尺寸的晶圆处理,更换时间短
带有间隔垫片的自动无接触楔形补偿序列 HERCULES的桥接工具系统可对多种尺寸的晶圆进行易碎,薄或翘曲的晶圆处理。微流体光刻机中芯在用吗
了解客户需求和有效的全球支持,这是我们提供优先解决方案的重要基础。重庆原装进口光刻机
仪器仪表行业飞速发展一是因为我国的经济高速稳定发展的运行;按照过去的经验,如果GDP的增长在10%以上时,仪表行业的增长率则在26%~30%之间。二是因为我国宏观调控对仪表行业的影响有一个滞后期,仪表往往在工程的后期才交付使用,因此,因宏观调控政策而减少的收入对仪表行业的影响不会太大。我国现有其他有限责任公司企业数千多家,已经形成门类品种比较齐全,具有一定技术基础和生产规模的产业体系。但同时业内行家也指出,虽然我国测试仪器产业有了一定的发展,但远远不能满足国民经济各行各业日益增长的迫切需求。随着手机移动网络的消费潜力不断隐现,消费者利用手机消费的频率和份额逐年递增。移动互联网所隐藏的商业价值被更多地挖掘出来之后,各种传统行业(包括半导体工艺设备,半导体测量设备,光刻机 键合机,膜厚测量仪行业)的移动网上平台相继诞生。为迎接贸易型百年未有之大变局,行家认为,要重新定义中国在世界经济版图中的地位,要顺应形势实现制造升级。以华立集团在境外开发“中国工业园”的成功案例来阐述,跨国经营要成为企业主动的战略选择,在不确定性中更好地活下去,以全球化视野看问题,很多困惑在全球化过程中会迎刃而解。重庆原装进口光刻机
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