重庆2GLNanoscribe微机械

时间:2024年12月01日 来源:

Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻,刻蚀和对准工艺,衍射光学元件(DOE)的传统制造耗时长且成本高。  更多有关3D微纳加工的咨询,欢迎致电Nanoscribe中国分公司-纳糯三维。重庆2GLNanoscribe微机械

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Nanoscribe的技术在多个领域都有广泛应用。在光子学领域,它可以制造光子晶体、超颖材料、激光分布回馈术(DFB Lasers)等。在微光学领域,它可以制造微光学器件和整合型光学。在微流道技术领域,它可以应用于生医芯片系统、物质研究开发与分析以及三维基础结构等方面。在生命科学领域,Nanoscribe的技术可以应用于细胞外数组结构、干细胞分离术、细胞成长研究、细胞迁移研究以及组织工程等方面。此外,Nanoscribe的技术还可以制造游泳microbots,用于精确高效地将药物送至身体的目标区域,以及制作极小的手术工具,用于显微外科手术。


重庆2GLNanoscribe微机械更多有关微纳3D打印产品和技术咨询,欢迎联系Nanoscribe中国分公司 - 纳糯三维科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe作为一家纳米,微米和中尺度高精度结构增材制造公司,一直致力于开发和生产3D 微纳加工系统和无掩模光刻系统,以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。Nanoscribe成立于 2007 年,是卡尔斯鲁厄理工学院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大学和创新科技企业的中,有超过2,500 多名用户在使用我们突破性的 3D 微纳加工技术和定制应用解决方案。 Nanoscribe 凭借其过硬的技术背景和市场敏锐度奠定了其市场优于主导地位,并以高标准来要求自己以满足客户的需求。


   对于光纤上打印的SERS探针,研究人员必须克服几个制造上的挑战。首先,他们设计了一个定制的光纤支架,可以在光纤的切面上打印。然后,打印的物体必须与光纤的重点部分完全对齐,以激发制造的拉曼热点。剩下的一个挑战,特别是对于像单体阵列这样的丝状结构,是对可能倾斜的基材表面的补偿。光纤倾斜的基材表面导致SERS活性微结构的产量很低。为了推动光学领域的创新以及在医疗设备的应用和光学传感的发展,例如光纤SERS探头,Nanoscribe近期推出了新的3D打印系统QuantumXalign。凭借其专有的在光纤上的打印设置和在所有空间方向上的倾斜校正,新的3D打印系统可能已经为在光纤上打印SERS探针的挑战提供了答案,并为进一步改进和新的创新奠定了基础。


Nanoscribe的技术在微电子、生物医学、光学等领域有着广泛的应用,为各行各业带来了创新和突破。

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基于双光子聚合(2PP)原理的双光子灰度光刻(2GL®)是Nanoscribe技术,具备体素动态控制能力。在扫描激光焦点横跨扫描平面时,调制曝光剂量会改变光敏树脂内的体素大小,从而实现对聚合体素尺寸的精细可控变化。这是激光功率调制和高速振镜扫描与精确的横向载物台运动同步的结果。为此,将灰度图像转换为曝光级别的空间变化,从而在一个平面上打印不同的体素高度。 2GL有什么优势? 双光子灰度光刻 技术(2GL®)使用激光束调制和高速振镜的高频同步进行单体素调节,从而实现光学质量表面结构。通过高精度定位单元和自校准程序,可在拼接相邻打印区域时以出色准确性进行打印,以制造大型结构。2GL动态调整打印场边界处的激光剂量,以补偿光敏聚合物的化学诱导收缩和定位缺陷。通过这种功能组合,可以在几平方厘米的区域内打印出真正的无缝结构,消除所有拼接痕迹。更多有关增材制造的咨询,欢迎致电Nanoscribe中国分公司-纳糯三维。重庆2GLNanoscribe微机械

Nanoscribe一直致力于推动各个科研领域,诸如力学超材料,微纳机器人等等。重庆2GLNanoscribe微机械

NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用双光子聚合(2PP)来产生几乎任何3D形状:晶格、木堆型结构、自由设计的图案、顺滑的轮廓、锐利的边缘、表面的和内置倒扣以及桥接结构。PhotonicProfessionalGT2结合了设计的灵活性和操控的简洁性,以及普遍的材料-基板选择。因此,它是一个理想的科学仪器和工业快速成型设备,适用于多用户共享平台和研究实验室。Nanoscribe的3D无掩模光刻机目前已经分布在30多个国家的前沿研究中,超过1,000个开创性科学研究项目是这项技术强大的设计和制造能力的证明。


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