岱美仪器技术服务2023-07-26
光刻机的工作原理主要涉及三个步骤:掩膜对准、曝光和显影。首先,通过对准系统,将掩膜的图案精确对准到硅片表面。然后,通过曝光光源,照射光源通过掩膜,将图案投影到硅片表面。再者,通过显影,去除未曝光区域的光敏剂,形成所需的图形。我们岱美拥有训练有素的工程师,能够为各地区用户提供快捷、可靠的技术支持和维修服务,在此欢迎广大客户前来咨询选购!
本回答由 岱美仪器技术服务 提供
电阻率测量仪的应用优势有哪些?
光刻机是什么?它有什么作用?
晶圆缺陷检测设备是什么?
晶圆缺陷检测设备有哪些常见的检测方法?
晶圆键合机的主要特点是什么?
隔振台在哪些领域中得到普遍应用?
岱美仪器技术服务
联系人: 卜先生
手 机: 4008529632
网 址: http://www.dymek.cn